技术指标： 晶体频率： 6MHz（新晶体）~5MHz 频率分辩率： 0.03Hz 膜厚分辩率： 0.132Å（铝） 膜厚准确度： 0.5％典型，取决于过程条件，是传感器的位置，材料应力，温度和密度 频率测量： 0.11Hz 膜厚测量： 0.1Å 速率测量 0.1Å/S 测量速率： 1~10次/S 测量通道数量： 单通道 用户界面： 显示仪或连接电脑操作 计算机通讯： RS232或RS485 外型尺寸： 96 x 45 x 18mm（长x宽x高） |
1、高测量。采用自有知识产权的高测频技术，高集成度。 2、小型结构： 整机名片盒大小，小巧实用，价格低廉。 3、具有模拟量输出接口，通过调节仪可对镀膜源进行控制，构建镀膜速率闭环控制系统，对镀膜速率进行控制。 4、界面友好易操作。连接电脑或显示器操作，操作方便。 |
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