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PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备 薄膜沉积设备 SiNx和SiO2薄膜 半导体二氧化硅 等
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PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备 薄膜沉积设备 SiNx和SiO2薄膜 半导体二氧化硅 等

产品价格:
电议
产品型号:
plasma therm
供应商等级:
企业未认证
经营模式:
工厂
企业名称:
新耕(上海)贸易有限公司
所属地区:
上海市
发布时间:
2013/8/9 10:17:49

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盛先生先生(联系我时,请说明是在维库仪器仪表网看到的,谢谢)

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新耕(上海)贸易有限公司

企业未认证营业执照未上传

经营模式:工厂

所在地:上海市

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  • 企业类型:制造商
  • 新旧程度:全新
  • 原产地:美国
等离子体增强化学气相沉积PECVD,成熟的技术,庞大的装机量,是VLSI(标准样片公司)供应商。有单腔手动方片。性价比很高。特别适合高校和研究单位。
PECVD系统能够沉积高质量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、类金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜和炭纳米管(CNT)等。可选用射频(RF)、空阴极高密度等离子体(HCD)源、感应耦合等离子体(ICP)源。该公司采用先进技术和稳定可靠的设计为您提供多方位的服务。

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新耕(上海)贸易有限公司

联系人:
盛先生先生
手机:
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所在地:
上海市
类型:
工厂
地址:
上海市浦东新区东方路800号宝安大厦800号1301

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