磁控溅射真空镀膜机其工作原理是在真空状态下，使用弧光放电和辉光放电的工作原理。在金属和非金属的工件表面上镀制金色的氮化钛，黑色碳化钛，七彩的氮氧化钛等。亦可镀防腐蚀膜（如AL,Cr不锈钢及TiN等）和耐磨膜，膜层与基底结合牢固，利用溅射工艺进行镀膜，可提高膜层的附着力、重复性、致密度、均匀度等特点。适合于塑料制品、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品等、工艺品、塑料手机壳、电子产品、建材等行业，具有很好的发展前景。
振华真空生产的磁控溅射镀膜机的主机控制采用可编程序控制器（PLC）+触摸屏（HMI）组合电气控制系统。全自动控制，配置先进大功率磁控电源，恒流输出，克服靶中毒。
磁控溅射全自动镀膜设备技术参数说明
设备型号：ZCK-1200，ZCK-1400，ZCK-1600，ZCK-1800
真空室尺寸：1200×1500，1400×1950，1600×1950，1800×1950
制膜种类：多功能金属膜、复合膜、透明导电膜、增返射膜、电磁屏蔽膜、装饰膜等
电源类型：直流磁控电源、中频磁控电源电源、高压离子轰击电源
圆柱靶：直流磁控靶、中频孪生靶、平面靶
真空室结构：立式双开门、立式单开门
真空系统：滑阀泵＋罗茨泵＋扩散泵＋维持泵（或选配：分子泵、深冷泵、深冷系统）
充气系统：质量流量控制仪（1-4路）
极限真空：6×10－4pa（空载、净室）
抽气时间：空载大气抽至5×10－3pa小于15分钟
工件旋转方式：6轴/8轴/9轴公自转/变频无级调速
控制方式：手动＋半自动＋全自动一体化/触摸屏＋PLC
备注：真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做
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