台式等离子蚀刻系统

产品介绍：P-10台式等离子蚀刻系统 / 紧凑型等离子体刻蚀机

配备真空泵的P-10是一款成套台式等离子蚀刻系统，因其可靠的设计、较低的价位，使其成为满足中小企业、医学实验室和研发机构的一款紧凑型等离子蚀刻设备。

P-10台式等离子蚀刻系统具有三个独特的等离子工作模式：
1）反应离子蚀刻（RIE），
2）普通的等离子清洗（Plasma Cleaning）和等离子体刻蚀(Plasma Etching)
3）P-10具有多功能等离子工艺配置，一台具备各向异性（anisotropic）和各向同性(isotropic）等离子刻蚀处理的系统。 并且配有可拆卸的托盘设置。

P-10台式等离子蚀刻系统 纵览

全铝合金材质真空舱可以容纳超过1500平方厘米的处理表面积，及配备三层处理托盘支架。 内置框架采用了简洁的设计，喷涂工业粉末涂层，以保护等离子处理环境免于污染。

当P-10台式等离子蚀刻系统在反应离子蚀刻（RIE）模式下工作时，专门设计的电极用于定向等离子体处理，即起到垂直向下的蚀刻效果。 此种等离子工艺主要是用于蚀刻微孔或清洗化学品无法达到的空间，因为液体的流动往往只限于在这些小的空间。

台式等离子蚀刻系统应用范围包括医疗设备，太阳能电池，印刷电路板（PCB），连接器，MEMS，纳米技术，晶圆级封装，以及许多其他相关的半导体工艺。

P-10台式等离子蚀刻系统特点

采用台式等离子蚀刻系统等离子清洗提高了任何材料表面处理的均匀性，减少或消除不必要且昂贵的化学试剂废物排放。简单易用，直观的触摸屏界面提供等离子操作界面，控制等离子刻蚀的各个方面，确保等离子工艺的重复性。 我们可以提供定制真空舱，电极配置，满足被蚀刻工件或工艺需要的定制平板电极，RIE（反应离子刻蚀）和等离子处理过程的温度控制。

P-10台式等离子蚀刻系统技术规格

P-10台式等离子蚀刻系统配置
真空舱体材质：全铝合金
电极设置：3套规格为 23cmX 41cm 电极，每套电极板间隔7.6cm
射频电源：600瓦@100MHz射频电源;
工艺气体控制：单套 O-50cc质量流量控制器
真空监测系统：皮拉尼真空计0-1托
控制器系统：微处理器系统，配备触摸屏界面
真空泵浦系统：8CFM氧气服务真空泵系统，配备油雾分离器

P-10台式等离子蚀刻系统可选配置：
600瓦@13.56MHz射频电源;
真空舱静电屏蔽
工艺温度控制
定制电极配置
RIE（反应离子刻蚀电极）
真空泵氮或CDA吹洗

P-10台式等离子蚀刻系统规格
P-10台式等离子蚀刻系统：43cm X 71cm X 76cm  净重：70公斤
P-10台式等离子蚀刻系统配套真空泵：15cm X 46cm X 23cm 净重：31公斤

P-10台式等离子蚀刻系统设备外部安装要求
电源：380/3/50 Hz
压缩空气：0.55~0.70 MPa，14升/分钟
工艺气体压力：0.1MPa,
系统环境温度：29摄氏度

如果您对该台式等离子蚀刻系统感兴趣，请随时联系我们。

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