- 产品品牌：
- 聚亮
- 产品型号：
- CW2010-Z
- 产品用途：
- 微距测量
- 测量范围：
- 35MM
CW2010—Z Z轴非接触式测量仪 一、特点: 以裂像聚焦指示器为测量原理, 采用高光学聚焦点检测方式进行非接触高低差测量。不仅可以对准目标影像, 还能观察测量点的表面状态,对高度,深度,高低差等进行测量。本仪器的各种镜筒还具有明暗场，微分干涉，金相，偏光等多种观察功能。所以对极细微的间隙高低差，夹杂物、微米以下的突起、细微划痕、以及金相组织进行观察。 二、用途：适用于硅片、IC、LCD、TFT、PCB、MEMS激光加工、晶片测试、半导体材料、线束加工蚀刻、液晶电池盖、导线框架等产品的检查观察.也适用于经过磨抛、化学处理的工件表面的金相组织结构，几何形状进行显微观测。并且有三维的测量功能，其解析率达0.0005mm。因此是精密零件，集成电路，半导体芯片，光伏电池，光学材料等行业的必用仪器。 三、主要规格 1. 镜筒：铰链式三目头部 30°倾斜 270°旋转 2. 高眼点平场目镜: WF10X/22 3. 平场复消色差物镜：(可根据使用需求选择不同倍率的物镜)
| f=200mm用全平场复消色差物镜/M Plan APO | ||||||
| 物镜数据 | ||||||
| 倍率 | 2X | *5X | *10X | *20X | 50X | 100X |
| NA | 0.055 | 0.14 | 0.28 | 0.42 | 0.55 | 0.55 |
| W.D(mm) | 34 | 34 | 33.5 | 20 | 13 | 13 |
| 焦点距离(mm) | 100 | 40 | 20 | 10 | 4 | 2 |
| 分解率(µm) | 5 | 2 | 1 | 0.7 | 0.5 | 0.5 |
| 焦深(µm) | 91 | 14 | 3.58 | 1.6 | 0.9 | 0.9 |
