特点:
经典消光法椭偏测量原理
仪器采用消光法椭偏测量原理,易于操作者理解和掌握椭偏测量基本原理和过程。
方便安全的样品水平放置方式
紧凑的一体化结构
高稳定性光源
丰富实用的样品测量功能
便捷的自动化操作
安全的用户使用权限管理
可扩展的仪器功能
应用领域:
EX3适合于教学中单层纳米薄膜的薄膜厚度测量,也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。EX3可测量的样品涉及微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等领域。技术指标:
项目 | 技术指标 |
仪器型号 | EX3 |
测量方式 | 自动测量 |
样品放置方式 | 水平放置 |
光源 | 半导体激光器,波长635nm |
膜厚测量重复性* | 0.5nm (对于Si基底上100nm的SiO2膜层) |
膜厚范围 | 透明薄膜:1-4000nm吸收薄膜则与材料性质相关 |
折射率范围 | 1.3 – 10 |
探测光束直径 | Φ2-3mm |
入射角度 | 30°-90°,0.05° |
偏振器方位角读数范围 | 0-360° |
偏振器步进角 | 0.014° |
样品方位调整 | Z轴高度调节:16mm二维俯仰调节:±4° |
允许样品尺寸 | 圆形样品直径Φ120mm,矩形样品可达120mm x 160mm |
配套软件 | * 用户权限设置* 多种测量模式选择* 多个测量项目选择* 方便的数据分析、计算、输入输出 |
外形尺寸 | (入射角度70°时)450*375*260mm |
仪器重量(净重) | 15Kg |
性能保证:
- ISO9001国际质量体系下的仪器质量保证
- 的仪器使用培训
- 的椭偏测量原理课程