仪器简介：
气氛炉以1800型硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用1800型氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用外壳整体密封、盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫、并通有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进出，有多处洗炉膛进气口、出气口处有燃烧嘴，可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。
技术参数：
HMX1600系列气氛炉
| 型号 | 炉膛尺寸（mm）D×W×H | 功率（kw） | 温度℃ | 额定温度 | 加热元件 | 电压 | 升温速率 |
| HMX1600-20 | 200×150×150 | 6 | 1600℃ | 1500℃ | 硅钼棒 | 220V | ≤20℃/min |
| HMX1600-30 | 300×200×200 | 8 | 1600℃ | 1500℃ | 硅钼棒 | 220V | ≤20℃/min |
| HMX1600-30A | 300×250×250 | 9 | 1600℃ | 1500℃ | 硅钼棒 | 380V | ≤20℃/min |
| HMX1600-40 | 400×300×300 | 12 | 1600℃ | 1500℃ | 硅钼棒 | 380V | ≤20℃/min |
| HMX1600-40B | 400×200×200 | 10 | 1600℃ | 1500℃ | 硅钼棒 | 380V | ≤20℃/min |
主要特点：
1、气氛炉以1800型硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，
2、炉膛采用1800型氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用外壳整体密封、盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫、并通有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进出，有多处洗炉膛进气口、出气口处有燃烧嘴，可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体，
3、该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。
备注：我公司可定制各种非标炉,不同炉膛尺寸,不同温度范围内的箱式炉,气氛炉,管式炉,真空炉等。欢迎来电洽谈。
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