等离子清洗器——理想的超清洗设备
等离子清洗器是一种小型化、快速、非破坏性并无化学污染的台式射频气体放电超清洗设备，主要用于需要表面超清洗的许多领域中，它也被用于一些材料表面化学改性。等离子清洗器清洗介质采用惰性气体，有效避免了其它清洗方法使用液体清洗介质对被清洗物所带来的二次污染。等离子清洗器有一个清洗腔，外接一个标准真空泵，开机后清洗腔中的气体在高频高压下产生电磁场，从而形成的等离子体轻柔地冲击被清洗物的表面，短时间的清洗就可以使被清洗物表面的有机污染物被逐步彻底地清洗掉，同时污染物被真空泵抽走。对某些特殊用途的材料，在超清洗过程中等离子清洗器的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和侵润性，并使这些材料得到了消毒。用户可以根据清洗需要选择不同的配件（石英清洗腔、石英支架等）。等离子清洗器广泛应用于光学材料、半导体工业、生物芯片、生物医学、牙科、高分子科学等各个方面。
应用领域如下：
1、清洗光学器件、电子元件、激光器件、镀膜基片、芯片
· 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片
· 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质
· 清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石
· 清洗半导体元件、印刷线路板
· 清洗生物芯片、微流控芯片
· 清洗沉积凝胶的基片
2、牙科领域：对硅酮压模材料和钛制牙移植物的预处理，增强其浸润性和相容性
3、医用领域：修复学上移植物的表面预处理，增强其浸润性、粘附性和相容性，医疗器械的消
毒和杀菌
4、改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力
5、去除金属材料表面的氧化物
6、使玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面活化，增强其表面粘附性、浸润性、相容性
7、高分子材料表面修饰
等离子清洗器对于表面需要超清洁的所有领域是理想的超清洗设备。
技术参数：
型号规格：PDC－32G－2（基本型）
整机规格：8×10×8（长×宽×高）英寸
反应舱规格：Φ3×L6.5英寸耐热玻璃
输入电源：220V／50Hz
整机输入功率：100 W
射频功率档：低档680V DC、10mA DC、6.8W
中档700V DC、15mA DC、10.5W
720V DC、25mA DC、18W
特征：紧凑的台式设备，应用一个功率为18瓦的RF线圈，没有RF辐射，符合CE安全标准，舱盖可拆卸。
型号规格：PDC—002（扩展型）
整机规格：9×18×11（长×宽×高）英寸
反应舱规格：Φ6×L6.5英寸耐热玻璃
输入电源：220V／50Hz
整机输入功率：200 W
射频功率档：低档716V DC、10mA DC、7.16W
中档720V DC、15mA DC、10.15W
740V DC、40mA DC、29.6W
特征：紧凑的台式设备，没有RF幅射，符合CE安全标准。反应舱盖具备铰链、磁力锁及可视窗口。
选配件：
石英等离子清洗舱
提供各自计量两种不同气体进气和监测压力的气体计量混合器Plasma FLOTM
需要：
兼容的真空泵，小速率为1.4 m3/hr，极限为200 MTorr
包括：
1/8英寸NPT针阀束引入气体和控制压力
主要特点：
• 它具有性能稳定、性价比高、清洗效率高、操作简便、使用成本极低、易于维护。
• 各种形状金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等固体物件表面的超清洗和改性。
• 完全彻底地清除样品表面的有机污染物。
• 定时处理、快速处理、操作简便。
• 对样品和环境无二次污染。
• 非破坏性处理
