| 品牌 | K-MAC | 型号 | ST5030 |
| 外形尺寸 | 500 x 750 x 650 mm（mm） | 重量 | 80Kg（Kg） |
| 产品用途 | 测量 |
| Stage Size | 300mm x 300mm |
| Measurement Range | 100?~ 35?(Depends on Film Type) |
| Spot size | 40?/20?,4?(option) |
| Measurement Speed | 1~2 sec./site (fitting time) |
| Application Areas | All Capability of ST2000 & More Precision Measurement Intended for Large Size Wafer Measure |
| Option | Reference sample(K-MAC or KRISS or NIST) Anti-vibration table |
| Revolving nosepiece | Quintuple Revolving Nosepiecs |
| Focus | Coaxial Coarse and Fine Focus Controls |
| Incident illumination | 12v 100W Halogen Lamp |
本产品适用于半导体领域内，测量薄膜厚度的光学分析仪器。我公司的ST产品的测量时间非常短暂，测量方法是属于非接触非破坏方法，使用显微镜可以测量很小区域内的再现性和准确性，现在，我们公司的薄膜测厚仪是远远于使用其它方法的其它产品。 【】厚度测量领域内的分解能力属于世界初微小领域测量 【】可以专用于测量微小领域的厚度分布 【】可以测量Wafer上的多层薄膜厚度与光学常数-折射率与吸收率 【】可以实时的测量厚度变化量与具有角度显示，打印，保存功能 【】可以快速的在1秒之内接受data并且修复data
