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Schmitt集工业设计、制造、及测试、测量控制系统于一身，其旗下的施密特光学表面粗糙度测量系统创建于上世纪九十年代中期，致力于晶圆和光碟生产工业及表面光散射测量技术，其产品主要应用于平面粗糙度测试，比如硅片，硬盘及镜面等等。施密特光学表面粗糙度测量系统向客户提供快速，非接触式测试，测量小于0.5?，有着其他竞争对手所无法比拟的水平。
Schmitt设计并制造了一系列高的表面测量及校准产品，产品涵盖了国内外多样化的市场需求。施密特的测量生产线由以下几个系列的产品组成，包括磁盘和晶圆测量工具，先进的表面分析散射仪。
型号详情：
μScan
产品优势：
― 便携式設計，輕巧方便
― 不受样品大小或環境限制
― 無需安裝，一插即用
― 操作简单，测量速度快
― 测量范围1? ~1100?
(粗糙度: Ra, RMS, P-V)
― 测量，分辨率高
― 體積小，容量大，自带内存可存储
700个数据，255個檔案
― 可程式設定合格/不合格標準
― 可附加軟件用於控制，分析和文件轉換
― 应用: 光学表面、高精密机械加工表面、半导体硅片、轧制及成型加工表面
技术参数：
测量范围: 粗糙度 (Ra, RMS, P-V) : 1? up to 1100?
反射率 (Reflectance) : 0.1 up to 100.0%
双向反射分布函数(BRDF) : 1e-6 to 1e0 (sr-1)
空间带宽: 上限 10 to 999 μm (可选)
下限 1.0 μm
测量时间: <5s
光斑尺寸: 1mm
重 复 性: ±0.5%
精 度: ±2% Reflectance
±3% Scatter
探测头波长: 670nm (1300nm可选)
TMS-2000WRC
产品优势：
― 非接触式,无损样品测试
― 粗糙度量程（Ra&RMS）0.2 ?~10,000 ?
― 可以径向、轴向、整体&区域扫描测试
― 价格低于同级别的轮廓仪、AFM及干涉仪
― 操作简单，测量速度快20～100点/秒
― 测量高，分辨率可达0.02?
― 重复性可达±0.1 ?
― 提高产品质量检测的可控性
― 主要应用于晶圆测量单晶硅&SOI 等
技术参数：
光源: Class II Laser, 670 nm 光斑: ~1mm直径
范围: 0.2? - 10,000? (RMS 或 Ra) 分辨率: 0.02?
可重复: ±0.1? 再现: ±0.20 ?
测试点: 样品整体扫描到单点测试
速度: 每秒钟进行20~100次测量
测试参数: Ra or RMS (Rq) 微观粗糙度 P-V, RMS 倾斜, TIS, 漫反射率, 镜面反射率, 总反射率, R-C 率
空间滤波频率: (波长)
低波段: 0.026 到 0.129 um-1 (7.8 到 38 um)
高波段: 0.129 到 1.14 um-1 (0.88 到 7.8 um)
全波段: 0.026 到 1.14 um-1 (0.88 到 38 um)
Comp Band: 从 0.2到 150um 可选
微观粗糙度: 可以径向、轴向、整体&区域扫描测试
TMS-3000WRC
产品优势：
― 非接触式,无损样品测试
― 粗糙度量程（Ra&RMS）0.2 ?~10,000 ?
― 可以径向、轴向、整体&区域扫描测试
― 价格低于同级别的轮廓仪、AFM及干涉仪
― 操作简单，测量速度快20～100点/秒
― 测量高，分辨率可达0.02?
― 重复性可达±0.1 ?
― 提高产品质量检测的可控性
― 主要应用于晶圆测量单晶硅&SOI 等
技术参数：
光源: Class II Laser, 670 nm 光斑: ~1mm 直径
测试点: 样品整体扫描到单点测试 速度: 每秒20~100次测量
范围: 0.2? - 10,000? (RMS或Ra) 分辨率: 0.02?
可重复: ±0.10 ? 再现: ±0.20?
测试参数: RA or RMS (Rq) 微观粗糙度 P-V, RMS 倾斜, TIS, 漫反射率,镜面反射率, 总反射率, R-C 率,
空间滤波频率: (波长)
低波段: 0.026 到 0.129 um-1 (7.8 到 38 um)
高波段: 0.129 到 1.14 um-1 (0.88到 7.8 um)
全波段: 0.026 到 1.14 um-1 (0.88到 38 um)
Comp Band: 从 0.2到 150um可选
微观粗糙度：可以径向、轴向、整体&区域扫描测试
