- 品牌/商标：Filmetrics
- 企业类型：制造商
- 新旧程度：全新
- 原产地：美国
膜厚测量仪的详细介绍
通过Filmetrics膜厚测量仪新反射式光谱测量技术,多4层透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在数秒钟测得。其应用广泛，例如 :
半导体工业 : 光阻、氧化物、氮化物。
LCD工业 : 间距 (cell gaps)，ito电极、polyimide 保护膜。
光电镀膜应用 : 硬化镀膜、抗反射镀膜、过滤片。
极易操作、快速、准确、机身轻巧及价格便宜为其主要优点，Filmetrics提供四种不同型号以供选择:
F20 : 这简单入门型号有三种不同波长选择(由220nm紫外线区 至1700nm近红外线区)为任意携带型。薄膜厚度范围是 30a到100nm，为1a゜。
F30:这型号可安装在任何真空镀膜机腔体外的窗口。可实时监控长晶速度、实时提供膜厚、n、k值。并可切定某一波长或固定测量时间间距。更可加装至三个探头，同时测量三个样品，具紫外线区或标准波长可供选择。
F40:這型號安裝在任何顯微鏡外，可提供小5um光點(100倍放大倍數)來測量微小樣品。
F50:這型號配備全自動xy工作台，由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通过快速扫瞄功能，可取得整片样品厚度分布情况(mapping)。
负担得起膜厚测量仪系统F20
使用F20分光计系统可以简便快速的测量厚度和光学参数（n和k）。您可以在几秒钟内通过薄膜上下面的反射比的频谱分析得到厚度、折射率和消光系数。任何具备基本电脑技术的人都能在几分钟内将整个桌面系统组装起来。 F20包括所有测量需要的部件：分光计、光源、光纤导线、镜头集合和Windows下运行的软件。您需要的只是接上您的电脑。 膜层实例 几乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能测。包括： sio2（二氧化硅） sinx（氮化硅） dlc（类金刚石碳） photoresist（光刻胶） polyer layers（高分子聚合物层） polymide（聚酰亚胺） polysilicon（多晶硅） amorphous silicon（非晶硅） 基底实例： 对于厚度测量，大多数情况下所要求的只是一块光滑、反射的基底。对于光学常数测量，需要一块平整的镜面反射基底；如果基底是透明的，基底背面需要进行处理使之不能反射。 包括：
silicon（硅） glass（玻璃） aluminum（铝） gaas（砷化镓） steel（钢） polycarbonate（聚碳酸脂） polymer films（高分子聚合物膜）
应用
| 半导体制造 | 液晶显示器 | 光学镀膜 |
| photoresist光刻胶 oxides氧化物 nitrides氮化物 | cell gaps液晶间隙 polyimide聚酰亚胺 ito纳米铟锡金属氧化物 | hardness coatings硬镀膜 anti-reflection coatings增透镀膜 filters滤光 |
f20 使用仿真活动来分析光谱反射率数据。 标准配置和规格
| F20-UV | F20 | F20-NIR | F20-EXR | |
| 只测试厚度 | 3nm ~ 70μm | 15nm ~ 70μm | 100nm ~ 250μm | 15nm ~ 250μm |
| 测试厚度和n&k值 | 50nm ~ 5μm | 100nm ~ 5μm | 300nm ~ 10μm | 100nm ~ 10μm |
| 波长范围 | 200-1100nm | 380-1100nm | 950-1700nm | 380-1700nm |
| 准确度 | 大于 0.4％ 或 2nm | |||
| 1A | 2A | 1A | ||
| 稳定性 | 0.7A | 1.2A | 0.7A | |
| 光斑大小 | 20μm至1.5mm可调 | |||
| 样品大小 | 1mm至300mm 及更大 | |||
| 探测器类型 | 1250-元素硅阵列 | 512-元素 砷化铟镓 | 1000-元素 硅 & 512-砷化铟镓阵列 | |
| 光源 | 钨卤素灯，氚灯 | |||
| 电脑要求 |
60mb 硬盘空间 50mb 空闲内存 usb接口 | |||
| 电源要求 | 100-240 vac, 50-60 hz, 0.3-0.1 a | |||
