CDW-2000宇光多用半自动荧光磁粉探伤机

CDW-2000宇光多用半自动荧光磁粉探伤机的详细信息

• 重量：(kg)
• 速度：——(千米/时)
• 阻性电流峰值：——(mA)
• 阻性电流：——(mA)
• 运行/试验电压值：——(KV)
• 全电流测量范围：——(mA)
• 电源：(V)
• 行程小分辨率：
• 同期分辨率：(ms)
• 时间分辨率：(ppm)
• 端口电压：(KV)
• 输出方式：
• 避雷器功耗：——(W)
• 外观尺寸：**(mm)

?一设备达标体现：.1、按照GB/T3721--83及JB/T8290--1998标准执行；2、按照ISO9001质量体系对磁粉探伤机的设计程序文件执行；3、根据需方工件的磁粉探伤工艺需求执行。二设备构成体现：?1 半自动荧光磁粉探伤检测线系机电分立式结构、半自动荧光磁粉探伤设备。主要由磁化电源、电气控制系统、夹持磁化系统、旋转观察系统、磁悬液喷洒及回收系统、荧光探伤系统、退磁装置等几部分组成。三适用范围2 适用于以湿式磁粉法检测由铁磁性材料制成的制动轮的表面及近表面因材料、锻造、加工、疲劳等各种原因引起的裂纹和各种细微缺陷。四 ?设备独具优势：1 该设备采用手动、自动两种运行方式，电气控制系统由工业PLC、人机界面（对话）专用触模屏、控制元件、交流磁化控制电路、电流指示、过欠流报警系统等组成。既可实现手动控制（单步操作）又可实现自动控制。由进口可编程控制器对设备进行集中控制，其中PLC和人机界面为专用控制系统。2 可对设备工作的所有动作进行程序化控制，对设备的各个关健状态实时监控。手动时，可进行每个功能的单步独立操作；自动时，该设备自动执行PLC内部程序，实现工件人工上料——平面旋转90°至磁化工位——磁化机构进入——穿棒、喷淋、复合磁化——平面旋转90°至旋转观察工位——平面旋转90°至退磁工位退磁——人工下料等一系列动作的半自动化。交流磁化带断电相位控制，具有较高的剩磁稳定度，既适用于连续法探伤检测，又适用于剩磁法探伤检测。复合磁化在工件上形成叠加磁场，性全方位显示磁迹，具有较高的检测效率。?

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