四平太阳能超纯水设备,四平电路板超纯水设备

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四平太阳能超纯水设备,四平电路板超纯水设备,四平高纯水制取设备
一.电子行业（特别是微电子行业）纯水需求量大，其特点是水质要求较高.

主要应用于：
 
1.   大规模集成电路元器件的生产用水，一般电阻率均大于18MO-CM。按国家有关用水标准（GB/T11446.1-1997）执行。

2.  电子元件厂，在焊接和组装过程中的冲洗用水。依据电子元件生产工艺不同，其用水标准中（即GB/T11446.1-1997）有可为四级（电导率18MO-CM以上，二级电阻率不低于15MO-CM，3级电阻率12MO-CM, 4级为0.5MO-CM）.

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二.制水工艺：
    
1（双级反参透）加ED1（电脱盐）,核子级混床以及除TOC及紫外线出水指标一般均达到18MO-CM以上。

2.反参透（1级或2级反参透）加ED1（电脱盐），此工艺的优点是操作简单，无需树脂再生工艺，且出水指标一般均达到15MO-CM以上。

电镀涂装行业中，为了增加镀件表面光洁度、亮度、附着力，电镀液的配制需要用电导率在15us/cm以下的纯水，另外在镀件漂洗时也需用电导率在10us/cm以下纯水来清洗，电镀行业水处理系统包括电镀前电镀液配制需要的纯水处理系统、电镀漂洗废水中稀有金属回收漂洗水循环利用废水零排放系统。通常系统由超滤装置，反渗透装置，离子交换装置，EDI装置等组合而成，以满足电镀行业对水质的要求。出水水质更好、更高!

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技术特征：
※制取电子级超纯水
※可连续自动生产，不必停机再生
※出水水质优于常规离子交换法
※不需酸碱再生，不污染环境
※运行成本低，占地面积小

进水水质要求：
※铁离子： < 0.01mg/L
※游离氯： < 0.5mg/L
※硬度： < 1.0mg/L
※活性SiO2: < 0.5mg/L
※总有机碳： < 0.5mg/L
※PH： 5.0-9.0

性能指标：
※出水电阻率： 10-18MΩ.cm
※SiO2： <10 ppb
※Na+： <10 ppb
※脱盐率： >99.5%
※单台产水量： 1-450 m3/h

应用范围：
※电力、石化及冶金行业的水处理除盐
※电子行业超纯水的制取
※医药行业超纯水的制取

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