价 格: | 面议 | |
型号/规格: | FNK6A | |
品牌/商标: | FNK | |
封装形式: | SOT23-6 | |
环保类别: | 无铅环保型 | |
安装方式: | 贴片式 | |
包装方式: | 卷带编带包装 | |
功率特征: | 小功率 |
MOSFET的核心:金属—氧化层—半导体电容
金属—氧化层—半导体结构MOSFET在结构上以一个金属—氧化层—半导体的电容为核心(如前所述,今日的MOSFET多半以多晶硅取代金属作为其栅极材料),氧化层的材料多半是二氧化硅,其下是作为基极的硅,而其上则是作为栅极的多晶硅。这样子的结构正好等于一个电容器(capacitor),氧化层扮演电容器中介电质(dielectric material)的角色,而电容值由氧化层的厚度与二氧化硅的介电常数(dielectric constant)来决定。栅极多晶硅与基极的硅则成为MOS电容的两个端点。
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当一个电压施加在MOS电容的两端时,半导体的电荷分布也会跟著改变。考虑一个p-type的半导体(电洞浓度为NA)形成的MOS电容,当一个正的电压VGB施加在栅极与基极端(如图)时,电洞的浓度会减少,电子的浓度会增加。当VGB够强时,接近栅极端的电子浓度会超过电洞。这个在p-type半导体中,电子浓度(带负电荷)超过电洞(带正电荷)浓度的区域,便是所谓的反转层(inversion layer)。
MOS电容的特性决定了MOSFET的操作特性,但是一个完整的MOSFET结构还需要一个提供多数载子(majority carrier)的源极以及接受这些多数载子的漏极。
MOS英文全称为Metal-Oxide-Semiconductor即金属-氧化物-半导体,确切的说,这个名字描述了集成电路中MOS管的结构,即:在一定结构的半导体器件上,加上二氧化硅和金属,形成栅极。从结构上说,MOS管可以分为增强型(E型)和耗尽型(D型),它们的区别在于当Vgs为0时,增强型(E型)不存在导电沟道,耗尽型(D型)存在导电沟道,原因是E型的导通电压(阈值电压)Vth>0,D型的Vth<0。MOS管形成的电路通称为MOS电路,但又有不同,PMOS逻辑电路称为PMOS电路,NMOS逻辑电路称为NMOS电路,PMOS和NMOS共同组成的逻辑电路称为CMOS集成电路,MOS和BJT组成的电路称为Bi-CMOS集成电路。由于MOS管静态功耗几乎为0,所有的功耗都集中在开关转换的过程中,因此相对BJT而言,MOS管的功耗更低。因此,在现代工业设计中,MOS管主要用于数字逻辑电路中实现开关逻辑(0、1逻辑)。 dzsc/19/4394/19439456.jpg dzsc/19/4394/19439456.jpgdzsc/19/4394/19439456.jpg
MOS英文全称为Metal-Oxide-Semiconductor即金属-氧化物-半导体,确切的说,这个名字描述了集成电路中MOS管的结构 MOS管导通特性 导通的意思是作为开关,相当于开关闭合。 NMOS的特性,Vgs大于一定的值就会导通,适合用于源极接地时的情况(低端驱动),只要栅极电压达到4V或10V就可以了。 PMOS的特性,Vgs小于一定的值就会导通,使用与源极接VCC时的情况(高端驱动)。但是,虽然PMOS可以很方便地用作高端驱动,但由于导通电阻大,价格贵,替换种类少等原因,在高端驱动中,通常还是使用NMOS。 dzsc/19/4395/19439596.jpg dzsc/19/4395/19439596.jpgdzsc/19/4395/19439596.jpg