乾野电子是中国研发成功并上量销售650V 超结-MOSFET(SJ-MOSFET)的设计公司,目标成为客户全球价值的功率半导体器件与服务供应商。
FNK P沟道增强模式功率MOSFET
描述
FNK5515PK采用先进的沟槽技术和设计提供出色的RDS(ON)低栅极电荷。它可用于各种各样的应用中。
一般特点
●VDS=55V,ID=15A
RDS(ON)<80MΩ@ VGS=-10V
●高密度电池设计超低导通电阻
●全雪崩电压和电流
●良好的散热性能的包装
应用
●电源开关应用
●硬开关和高频电路
●DC-DC转换器
场效应管的测量方法
乾野电子专注于各产品的应用行业和领域的研究和并达到精通,使产品性能的利用达到化和化。 FNK P沟道增强模式功率MOSFET 描述 FNK5515PK采用先进的沟槽技术和设计提供出色的RDS(ON)低栅极电荷。它可用于各种各样的应用中。 一般特点 ●VDS=55V,ID=15A RDS(ON)<80MΩ@ VGS=-10V ●高密度电池设计超低导通电阻 ●全雪崩电压和电流 ●良好的散热性能的包装 应用 ●电源开关应用 ●硬开关和高频电路 ●DC-DC转换器 从目前的角度来看MOSFET的命名,事实上会让人得到错误的印象。因为MOSFET里代表"metal"的个字母M在当下大部分同类的元件里是不存在的。早期MOSFET的栅极(gate electrode)使用金属作为其材料,但随著半导体技术的进步,随后MOSFET栅极使用多晶硅取代了金属。在处理器中,多晶硅栅已经不是主流技术,从英特尔采用45纳米线宽的P1266处理器开始,栅极开始重新使用金属。 MOSFET在概念上属于"绝缘栅极场效晶体管"(Insulated-Gate Field Effect Transistor,IGFET),而IGFET的栅极绝缘层有可能是其他物质而非MOSFET使用的氧化层。有些人在提到拥...
乾野电子从事各种大功率半导体器件与功率集成器件设计、生产和销售,是中国大功率半导体器件的领航设计与销售企业。 FNK P沟道增强模式功率MOSFET的描述 FNK4050PK采用先进的沟槽技术和设计提供出色的RDS(ON)低栅极电荷,该器件非常适合高电流负载的应用。 一般特点 ●VDS=40V,ID=-50A RDS(ON)<13mΩ@ VGS=-10V ●高密度电池设计超低导通电阻 ●全雪崩电压和电流 ●良好的稳定性和均匀性,高EAS ●良好的散热性能的包装 ●特殊工艺技术,高ESD能力 应用 ●电源开关 ●高电流应用中的负载开关 ●DC/ DC转换器 场效应管的判断方法 结型场管脚识别 场效应管的栅极相当于晶体管的基极,源极和漏极分别对应于晶体管的发射极和集电极。将万用表置于R×1k档,用两表笔分别测量每两个管脚间的正、反向电阻。当某两个管脚间的正、反向电阻相等,均为数KΩ时,则这两个管脚为漏极D和源极S(可互换),余下的一个管脚即为栅极G.对于有4个管脚的结型场效应管,另外一极是屏蔽极(使用中接地)。