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FNK08N03C|MOS管主要参数

价 格: 面议
型号/规格:FNK08N03C
品牌/商标:FNK08N03C
封装形式:TO-251
环保类别:无铅环保型
安装方式:贴片式
包装方式:卷带编带包装

  乾野电子从事各种大功率半导体器件与功率集成器件设计、生产和销售,是中国大功率半导体器件的领航设计与销售企业。

 

  主要参数
  1.开启电压VT
  ·开启电压(又称阈值电压):使得源极S和漏极D之间开始形成导电沟道所需的栅极电压;
  ·标准的N沟道MOS管,VT约为3~6V;
  ·通过工艺上的改进,可以使MOS管的VT值降到2~3V.
  2. 直流输入电阻RGS
  ·即在栅源极之间加的电压与栅极电流之比
  ·这一特性有时以流过栅极的栅流表示
  ·MOS管的RGS可以很容易地超过1010Ω。
  3. 漏源击穿电压BVDS
  ·在VGS=0(增强型)的条件下 ,在增加漏源电压过程中使ID开始剧增时的VDS称为漏源击穿电压BVDS
  ·ID剧增的原因有下列两个方面:
  (1)漏极附近耗尽层的雪崩击穿
  (2)漏源极间的穿通击穿
  ·有些MOS管中,其沟道长度较短,不断增加VDS会使漏区的耗尽层一直扩展到源区,使沟道长度为零,即产生漏源间的穿通,穿通后,源区中的多数载流子,将直接受耗尽层电场的吸引,到达漏区,产生大的ID。
  4. 栅源击穿电压BVGS
  ·在增加栅源电压过程中,使栅极电流IG由零开始剧增时的VGS,称为栅源击穿电压BVGS.
  5. 低频跨导gm
  ·在VDS为某一固定数值的条件下 ,漏极电流的微变量和引起这个变化的栅源电压微变量之比称为跨导
  ·gm反映了栅源电压对漏极电流的控制能力
  ·是表征MOS管放大能力的一个重要参数
  ·一般在十分之几至几mA/V的范围内
  6. 导通电阻RON
  ·导通电阻RON说明了VDS对ID的影响 ,是漏极特性某一点切线的斜率的倒数
  ·在饱和区,ID几乎不随VDS改变,RON的数值很大,一般在几十千欧到几百千欧之间
  ·由于在数字电路中 ,MOS管导通时经常工作在VDS=0的状态下,所以这时的导通电阻RON可用原点的RON来近似
  ·对一般的MOS管而言,RON的数值在几百欧以内。
  7. 极间电容
  ·三个电极之间都存在着极间电容:栅源电容CGS 、栅漏电容CGD和漏源电容CDS
  ·CGS和CGD约为1~3pF
  ·CDS约在0.1~1pF之间
  8. 低频噪声系数NF
  ·噪声是由管子内部载流子运动的不规则性所引起的
  ·由于它的存在,就使一个放大器即便在没有信号输人时,在输出端也出现不规则的电压或电流变化
  ·噪声性能的大小通常用噪声系数NF来表示,它的单位为分贝(dB)
  ·这个数值越小,代表管子所产生的噪声越小
  ·低频噪声系数是在低频范围内测出的噪声系数
  ·场效应管的噪声系数约为几个分贝,它比双极性三极管的要小。

惠州市乾野电子有限公司
公司信息未核实
  • 所属城市:广东 惠州
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惠州市乾野电子有限公司(简称FNK-TECH) 成立于2003 年。 从事各种大功率半导体器件与功率集成器件设计、生产和销售,是中国大功率半导体器件的领航设计与销售企业。 目前(20V-250V)大功率Trench-MOS 器件、(500V-650V)SJ-MOS器件、普通高压MOS器件(600V)已量产与销售, 并取得国内和国际的多项技术。 公司是中国研发成功并上量销售650V 超结-MOSFET(SJ-MOSFET)的设计公司,目标成为客户全球价值的功率半导体器件与服务供应商。 产品注重发展大功率器件、功率模块和集成器件、压电陀螺仪;性能与可靠性超越同行;应用偏向高端;注重品牌和信誉。 公司在中国大陆(上海、惠州等)、香港分别建立了设计与运营中心、销售公司。 dzsc/19/4097/19409732.jpg dzsc/19/4097/19409732.jpg   MOS管的简介   双极型晶体管把输入端电流的微小变化放大后,在输出端输出一个大的电流变化。双极型晶体管的增益就定义为输出输入电流之比(beta)。另一种晶体管,叫做场效应管(FET),把输入电压的变化转化为输出电流的变化。FET的增益等于它的transconductance, 定义为输出电流的变化和输入电压变化之比...

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