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FNK30H80|厂家生产MOS管

价 格: 面议
型号/规格:FNK30H80
品牌/商标:FNK
封装形式:TO-220
环保类别:无铅环保型
安装方式:直插式
包装方式:卷带编带包装

  乾野电子成功的秘诀是利用自身能融汇贯通器件与工艺设计的技术优势,专注与国际的8"芯片代工厂、封装与测试代工厂的紧密合作,通过保证产品在生产和测试过程中的质量控制,确保大批量生产中,产品的持续优质和稳定供货;同时专注于各产品的应用行业和领域的研究和并达到精通,使产品性能的利用达到化和化。

 

  MOS管的主要参数
  直流参数
  饱和漏极电流IDSS它可定义为:当栅、源极之间的电压等于零,而漏、源极之间的电压大于夹断电压时,对应的漏极电流。
  夹断电压UP它可定义为:当UDS一定时,使ID减小到一个微小的电流时所需的UGS.
  开启电压UT它可定义为:当UDS一定时,使ID到达某一个数值时所需的UGS.
  交流参数
  低频跨导gm它是描述栅、源电压对漏极电流的控制作用。
  极间电容场效应管三个电极之间的电容,它的值越小表示管子的性能越好。
  极限参数
  漏、源击穿电压当漏极电流急剧上升时,产生雪崩击穿时的UDS.
  栅极击穿电压结型场效应管正常工作时,栅、源极之间的PN结处于反向偏置状态,若电流过高,则产生击穿现象。

 

  MOS管的简介
  双极型晶体管把输入端电流的微小变化放大后,在输出端输出一个大的电流变化。双极型晶体管的增益就定义为输出输入电流之比(beta)。另一种晶体管,叫做场效应管(FET),把输入电压的变化转化为输出电流的变化。FET的增益等于它的transconductance, 定义为输出电流的变化和输入电压变化之比。市面上常有的一般为N沟道和P沟道,详情参考右侧图片。而P沟道常见的为低压Mos管。
  场效应管的名字也来源于它的输入端(称为gate)通过投影一个电场在一个绝缘层上来影响流过晶体管的电流。事实上没有电流流过这个绝缘体,所以FET管的GATE电流非常小。最普通的FET用一薄层二氧化硅来作为GATE极下的绝缘体。这种晶体管称为金属氧化物半导体(MOS)晶体管,或,金属氧化物半导体场效应管(MOSFET)。因为MOS管更小更省电,所以他们已经在很多应用场合取代了双极型晶体管。

惠州市乾野电子有限公司
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信息内容:

乾野电子目前的产品(20V-250V)大功率Trench-MOS 器件、(500V-650V)SJ-MOS器件、普通高压MOS器件(600V)已量产与销售, 并取得国内和国际的多项技术。   MOSFET的主要参数   直流参数   饱和漏极电流IDSS它可定义为:当栅、源极之间的电压等于零,而漏、源极之间的电压大于夹断电压时,对应的漏极电流。   夹断电压UP它可定义为:当UDS一定时,使ID减小到一个微小的电流时所需的UGS.   开启电压UT它可定义为:当UDS一定时,使ID到达某一个数值时所需的UGS.   交流参数   低频跨导gm它是描述栅、源电压对漏极电流的控制作用。   极间电容场效应管三个电极之间的电容,它的值越小表示管子的性能越好。   极限参数   漏、源击穿电压当漏极电流急剧上升时,产生雪崩击穿时的UDS.   栅极击穿电压结型场效应管正常工作时,栅、源极之间的PN结处于反向偏置状态,若电流过高,则产生击穿现象。   MOSFET里的氧化层位于其通道上方,依照其操作电压的不同,这层氧化物的厚度仅有数十至数百埃(Å)不等,通常材料是二氧化硅(silicon dioxide,SiO2),不过有些新的进阶制程已经可以使用如氮氧化硅(silicon oxy...

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FNK30H80|MOSFET绝缘栅极场效晶体管

信息内容:

乾野电子从事各种大功率半导体器件与功率集成器件设计、生产和销售,是中国大功率半导体器件的领航设计与销售企业。   MOSFET的主要参数   直流参数   饱和漏极电流IDSS它可定义为:当栅、源极之间的电压等于零,而漏、源极之间的电压大于夹断电压时,对应的漏极电流。   夹断电压UP它可定义为:当UDS一定时,使ID减小到一个微小的电流时所需的UGS.   开启电压UT它可定义为:当UDS一定时,使ID到达某一个数值时所需的UGS.   交流参数   低频跨导gm它是描述栅、源电压对漏极电流的控制作用。   极间电容场效应管三个电极之间的电容,它的值越小表示管子的性能越好。   极限参数   漏、源击穿电压当漏极电流急剧上升时,产生雪崩击穿时的UDS.   栅极击穿电压结型场效应管正常工作时,栅、源极之间的PN结处于反向偏置状态,若电流过高,则产生击穿现象。   MOSFET在概念上属于"绝缘栅极场效晶体管"(Insulated-Gate Field Effect Transistor,IGFET),而IGFET的栅极绝缘层有可能是其他物质而非MOSFET使用的氧化层。有些人在提到拥有多晶硅栅极的场效晶体管元件时比较喜欢用IGFET,但是这些IGFET多半指的是MOSFET.

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