类型:薄膜测厚仪 品牌:美国 型号:SGC-10 测量范围:20nm-50um(只测膜厚),100nm-25um(同时测量膜厚和光学常数n,k)(mm) 显示方式:详细说明 电源电压:详细说明(V) 外形尺寸:详细说明(mm)
仪器介绍 SGC-10薄膜测厚仪,适用于介质,半导体,薄膜滤波器和液晶等薄膜和涂层的厚度测量。该薄膜测厚仪,是我公司与美国new-span公司合作研制的,采用new-span公司先进的薄膜测厚技术,基于白光干涉的原理来测定薄膜的厚度和光学常数(折射率n,消光系数k)。它通过分析薄膜表面的反射光和薄膜与基底界面的反射光相干形成的反射谱,用相应的软件来拟合运算,得到单层或多层膜系各层的厚度d,折射率n,消光系数k。该设备关键部件均为国外进口,也可根据客户需要整机进口。
技术参数参数和性能指标
厚度范围: 20nm-50um(只测膜厚),100nm-25um(同时测量膜厚和光学常数n,k)
准确度: <1nm或<0.5%
重复性: 0.1nm
波长范围: 380nm-1000nm
可测层数: 1-4层
样品尺寸: 样品镀膜区直径>1.2mm
测量速度: 5s-60s
光斑直径: 1.2mm-10mm可调
主要特点仪器特点
1 非接触式测量,用光纤探头来接收反射光,不会破坏和污染薄膜;
2 测量速度快,测量时间为秒的量级;
3 可用来测薄膜厚度,也可用来测量薄膜的折射率n和消光吸收k;
4 可测单层薄膜,还可测多层膜系;
5 可广泛应用于各种介质,半导体,液晶等透明半透明薄膜材料;
6 软件的材料库中整合了大量材料的折射率和消光系数,可供用户参考;
7 内嵌微型光纤光谱仪,结构紧凑, 光纤光谱仪也可单独使用。
仪器成套性
测厚仪主体(内含光源和光纤光谱仪),光纤跳线,光纤探头,标准硅片,支撑部件,配套软件
可扩展性
通过光纤连接带有C口的显微镜,就可以使本测量仪适用于微区(>10um)薄膜厚度的测量。
强大的软件功能
界面友好,操作简便;
可保存测量得到的反射谱;
可读取保存的反射率数据;
可选择是否测量折射率n,消光系数k;
可选择光谱范围;
可猜测薄膜厚度以节省测量时间;
可从大量的材料库中选择薄膜和基底的材料;
用户可自己扩充材料库。
品牌:天津港东 型号:F-320 光源:150W氙灯 波长范围:200~760nm(nm) 重量:约47kg(g)产品简介·F-320具有性能稳定,使用方便等特点。光谱仪制造技术,使其拥有更杰出的性能。光学设计,也提升了灵敏度等技术指标,也使仪器紧凑,占用更小实验台面积。·基于Microsoft Windows的控制及分析软件,简洁易用,使您轻松进行参数设置、数据采集和数据处理。·采用USB2.0接口,数据传输速度快,连接方便。·高强度的150瓦氙灯,为200-900nm波长范围内的测定提供充足的光能。·高信噪比:100:1水拉曼峰(P/P)·具有波长扫描、时间扫描等特定功能,使用起来更方便。·多种可选附件:固体样品反射附件:用来测量固体粉末样品偏振附件:测量发射光的偏振角度滤光片附件:滤除二级谱及杂散光 主要功能·波长扫描波长扫描功能主要包括荧光强度和发光强度两种数据模式。通过荧光强度数据模式可以得到样品的激发光谱和荧光光谱,是一种比较常用的方法。·时间扫描时间扫描是在规定的时间间隔内采集被测样品的荧光强度随时间变化曲线。可以用来监测样品的物理化学变化,动力学法可被执行。·光度值法使用波长法进行定量,...
型号:ESD-20 规格:详见说明 外形尺寸:详见说明(mm) 重量:详见说明(Kg)dzsc/17/9175/17917573.jpg仪器符合IEC61000-4-2和GB/T17626.2标准要求,旨在为评定电气和电子设备经受静电放电时的性能制定一个共同的准则。此外,该仪器还能模拟在被试设备附近的带静电物体之间的放电,考核设备的抗扰性。·主要特点: 1、 能实现IEC61000-4-2,GB/T17626.2标准要求的试验。 2、 放电电压的稳定度和精度极高。放电模式可分为接触放电 和气隙放电两种, NS61000-2K输出电压可目的达 20kV。 NS61000-2(30kV)输出电压可达30kV。 3、 放电枪体采用重量平衡式设计,使用轻便舒适 4、 面板操作容易,可方便地切换正负极性、设定放电次数和放 电间隔时间。 5、 NS61000-2K的结构合理、外形美观,特别是仪器内部采用 智能芯片控制,集成度高,故障率低,放电间隔时间更精确稳定。 且有蜂鸣器应答按钮操作,符合人性化原则。