简介：
Lumina AT2-EFEM可以在2分钟内完成300毫米晶圆的缺陷扫描，对于基底上下表面的颗粒、凸起、凹陷、划痕、内含物等缺陷均可一次性成像。在透明基底，如玻璃，化合物半导体如氮化镓、砷化镓、碳化硅等样品上有独特的优势。也可用于薄膜涂层的成像厚度变化的全表面扫描。
样品300 x 300 mm。
厂商简介
Lumina Instruments，总部位于美国加利福尼亚州圣何塞，公司创始人在透明、半透明和不透明基板全表面缺陷检测创新了更快速准确的方法，因此创建了革命性的仪器品牌lumina.
技术创新
将样片放入AT2-EFEM系统中，2~3分钟即可完成扫描。
收集的数据将被分析，图像和缺陷图将由LuminaSoft软件生成。
感兴趣的缺陷可在扫描电子显微镜（SEM）、椭偏仪、显微镜等上进行进一步分析。
将样品放入系统
直径为30微米的绿色激光以50毫米的直线运动，反射光和散射光由四个探测器捕获。
四通道检测
Lumina AT2-EFEM:采取的样品尺寸为300mm；光斑的大小在60μm也可以选择30或10μm；灵敏度在300nm为理想；扫描时间在40/50/120s。
AT2应用：
l 内部缺陷：在融化阶段，玻璃内含有污染物
l 内应力：生产过程中玻璃内部形成的张力或折射率内部变化。
l 污渍：由于薄膜残留或清洗过程导致表面变色。
AT2
系统规格
扫描时间:2分钟内扫描300mm晶圆
扫描范围: 450x450mm
灵敏度: 薄膜缺陷<0.5
颗粒，硅上200nm PSL
颗粒，玻璃上300nm PSL
标刻: 金刚石标刻 200$
翘曲度: 范围可达800μm
+/-5μm重复性
温度: 18-30摄氏度
电压: 120/230VAC
电流: 8A/4A
重量: 480Kg (1058磅)
尺寸: 1037 x 1037 x2005mm (40.8 x 40.8x79英寸)
