刻蚀镀膜仪 型号: PECS II 685.M

刻蚀镀膜仪 PEC II

型号 685

刻蚀镀膜仪 (PEC?)II 是一款桌面型宽束氩离子抛光及镀膜设

备。

对于同一个样品，可在同一真空环境完成抛光及镀膜.

PEC II 是一款完、结构紧凑的台式设 备。采用两个宽

束氩离子源对样品表面进行抛光， 去除损伤层，从而得到高

质量样品，用于在 EM， 光镜或者扫描探针显微镜进行成

像、ED、EBD、CL、EBIC 或其它析。

PEC II 采用 WhisperLok?技术，可选 配温控液氮冷却台。该

功能有助于避免抛光过程 中产生的热量而导致的样品融化或者结

构变化。.

PEC II内置了一个 10 英寸的触摸屏。无论新手还是级用户，

都可提高样品的加工可控性 及可重复性。数码变焦显微镜配合

DigitalMicrograph? 软件，可实现对样品加工过程的实时 监控及

储存彩色照片，这便于在EM中进行样品检查和析。

主要应用

? 半导体

? 金属（氧化物，合金）

? 陶瓷

? 自然资源

技术规格

PEC II 系统

离子源

离子 两个配有稀土磁铁的潘宁离子

抛光角度 0 到18°

每支离子可调节

离子束能量 (kV) 0.1 – 8.0

离子束流密度峰值(mA/cm2) 10

抛光速率 (μm/h) 300（对于硅试样）

离子束直径 可用气体流量计或放电电压来调节

样品台

样品大小(长 * 宽 * 高, mm) 32 x*15

转速 (rpm) 1 – 6

离子束调制 角度范可调的单向调制或双向调制

样品观察 数码变焦显微镜，配有 PC 及

DigitalMicrograph 软件（选配件）

真空系统

干泵系统 两级隔膜泵支持 80 L/s的涡轮子泵

压力 (torr)

基本压力 5 x 10-6

工作压力 8 x 10-5

真空规 冷阴极型，用于主样品室；固体型，

用 于 前级机械泵

样品气锁 WhisperLok技术，样品交换时

间小于1 钟

用户界面

10 英寸彩色触摸屏 操作简单，且能够完控制所有参数

和配方式操作

尺寸及使用要求

外形尺寸 (长 x*宽 * 高, mm) 575 *495 * 615

运输重量(kg) 45

功耗 (W)

运行时 待 200

机时 100

电源要求 通用 100 – 240 VAC，50/60 Hz（用

户电压和频率）

氩气(psi) 25

注：以技术规格如有变化将不另行通知

订购型号

型号 描述

685 Cold (685.C) 带有冷台的 PEC II

685 Pro (685.O) 带有冷台和数字成像显微系统的

PEC II

685 Advantage (685.A) 带有冷台、数字成像显微系统和马达

驱动离子系统的 PEC II

685 Met Etch (685.M) PEC II 基本版,不带溅射沉积

685 ProTransfer (685.OV) 带有真空转移装置的 PEC II Pro 系

统

685 AdvantageTransfer (685.) 带有真空转移装置的 PEC II

Advantage 系统

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