Proforma 301i | Proforma 301Gi | Proforma 301 OEMi | |
3: | ±0.25 μm | ||
可重复性4: | ±0.25 μm | ||
分辨率: | 0.06 μm | ||
电压输入(电压): | 101 to 240VAC | ||
电压输入(频率): | 51 to 60Hz | ||
电力输入(功率): | 51 W | ||
使用温度范围: | 16 to 40oC | ||
响应时间: | 61ms | 客户指定 | |
尺寸(长x宽x高): | 482x330x280 mm | 483x388x90 mm | |
数据接口 | RS233,网口, U, LCD | RS233,网口 | |
可支持的材料5: | |||
Si | √ | √ | √ |
Ge | √ | √ | √ |
InP | √ | √ | √ |
GaAs | √ | ||
重量: | 12.3 kg | 12.4 kg | 5.10 kg |
半自动无接触硅片测试仪可以测量硅片厚度、总厚度变化TTV、弯曲度、翘曲度、单点和总体平整度，该仪器适用于Si，GaAs，InP，Ge等几乎的材料，强大的软件功能能够在几秒内测试硅片的厚度、总厚度变化TTV、弯曲度、翘曲度、单点和总体平整度，的设计都合ASTM(美国材料实验协会)和Semi标准，与其他工艺仪器的兼容与统一。可用于75 mm, 100 mm, 125 mm, 150 mm, 200 mm多种尺寸。
半自动无接触硅片测试仪 - 产品特点
■比可替代全自动
■厚度测试无需重新校准
■标准Windows系统和友好界面
■的度和测量重复性
■合ASTM(美国材料实验协会)和Semi标准
■采用一键式硅片检测，并生成三维硅片图像
■友好易用
■标准的Windows系统，易于安装和使用。
■每个测量和机械参数都可从选项表中进行选择，该控制软件具有三个级别
■从硅片生产环境到硅片几何工程分析，同时系统对输出数据进行报表表格定制
半自动无接触硅片测试仪 - 技术指标
■晶圆硅片测试尺寸： 75 mm, 100 mm, 125 mm, 150 mm, 200 mm .
■厚度测试范围： 1000 u m ， 可扩展到 1700 um.
■厚度测试： +/-0.25um
■厚度重复性： 0.050umm
■TTV 测试 : +/-0.05um
■TTV 重复性 : 0.050um
■弯曲度测试范围： +/-500um [+/-850um]
■弯曲度测试： +/-2.0umm
■弯曲度重复性： 0.750umm
■翘曲度测试范围： +/-500um [+/-850um]
■翘曲度测试： +/-2.0umm
■翘曲度重复性： 0.750umm
■平整度（总体）测试 : +/-0.05um
■平整度（总体）重复性 : 0.030um
■平整度（点）测试 : +/-0.05um
■平整度（点）重复性 : 0.030um
■晶圆硅片导电型号： P 或 N 型
■材料： Si ， GaAs ， InP ， Ge 等几乎 半导体材料
■可用在： 切片后、磨片前、后， 蚀刻，抛光 以及出厂、入厂质量检测等
■平面 / 缺口：的半导体标准平面或缺口
■硅片安装：裸片，蓝宝石 / 石英基底， 黏胶带
半自动无接触硅片测试仪 - 应用范围
> 切片
>>线锯设置
>>>厚度
>>>总厚度变化TTV
>>监测
>>>导线槽
>>>刀片更换
>磨片/刻蚀和抛光
>> 过程监控
>> 厚度
>>总厚度变化TTV
>> 材料去除率
>> 弯曲度
>> 翘曲度
>> 平整度
> 研磨
>> 材料去除率
> 终检测
>> 抽检或全检
>> 终检厚度
