M-NH3分析仪技术优势
?无其他背景气体干扰
?适用于高温、高粉尘、高水汽的恶劣检测环境。
?快速的响应时间：1秒
?高灵敏度：依赖于光程，灵敏度可达1ppb
?光纤/同轴信号线的连接方式实现现场检测点的远程监测
?采用可调式二管激光吸收光谱（TDLAS）技术
?短期性、长期性、现场检测都可适用
?检测下限低
?便于携带，安装灵活，坚固耐用，测量
?运行成本低，系统无漂移，维护量少
?性能稳定，无需预处理系统
M-NH3分析仪应用
1）SCR（选择性催化还原）法脱销工艺中，反应器出口尾部烟气中的逃逸NH3浓度监测。
2）SNCR（选择性非催化还原）法脱销工艺中，炉膛出口尾部烟道中逃逸NH3浓度监测。
3）其他工业生产工艺流程中，烟道或管道内NH3浓度监测。
技术参数
光学监测系统（探杆式）
检测下限
应用领域
?无其他背景气体干扰
?适用于高温、高粉尘、高水汽的恶劣检测环境。
?快速的响应时间：1秒
?高灵敏度：依赖于光程，灵敏度可达1ppb
?光纤/同轴信号线的连接方式实现现场检测点的远程监测
?采用可调式二管激光吸收光谱（TDLAS）技术
?短期性、长期性、现场检测都可适用
?检测下限低
?便于携带，安装灵活，坚固耐用，测量
?运行成本低，系统无漂移，维护量少
?性能稳定，无需预处理系统
M-NH3分析仪应用
1）SCR（选择性催化还原）法脱销工艺中，反应器出口尾部烟气中的逃逸NH3浓度监测。
2）SNCR（选择性非催化还原）法脱销工艺中，炉膛出口尾部烟道中逃逸NH3浓度监测。
3）其他工业生产工艺流程中，烟道或管道内NH3浓度监测。
技术参数
| 量 程 | 0～20ppm,0～3000ppm内任意设定 |
| 检测下限 | 0.25ppm/m光径 |
| 响应时间 | ≤1S |
| 激 光 器 | 近红外二管激光器 |
| 校 正 | 出厂设定，无需用户定期设定 |
| 被测气体温度 | ≤1000℃ |
| 被侧气体压力 | 25～2000mbar |
| 光 程 | ≤25米 |
| 系统漂移 | 无漂移，不受温度，压力等系统部件的老化的影响 |
| 操作软件 | 光谱软件2011 |
| 数据存储 | 内置2GB闪存 |
| 电 源 | 220VAC |
| 数据通讯接口 | 以太网、RS232 |
| 分析控制器尺寸 | 25×15×28cm(L×W×H) |
| 重量 | 4KG |
光学监测系统（探杆式）
| 探杆长度 | 1800mm（可根据用户要求延长） |
| 探杆外径 | DN60 |
| 材质 | 不锈钢 |
| 光学窗口 | 熔融石英，A/R 镶膜 |
| 被检测气体 | ≤1000℃，（5—59）RH，（25—2000）mba |
| 光学部件 | （-40—65）℃，（5—95）RH，（25—2000mba） |
| 安装方式 | 直接式 |
检测下限
| CO | 30 ppm | 38mg/m3 | H2O | 0.1 ppm | 0.08 mg/m3 |
| CO2 | 30 ppm | 59 mg/m3 | H2S | 5 ppm | 8 mg/m3 |
| CH4 | 0.5 ppm | 0.36mg/m3 | NH3 | 0.3 ppm | 0.23 mg/m3 |
| HCL | 0.2 ppm | 0.32mg/m3 | 15 ppm | 20 mg/m3 | |
| HF | 0.03 ppm | 0.03 mg/m3 | O2 | 100 ppm | 140 mg/m3 |
| 电解铝 | HF | 化工 | HF, H2O |
| 钢铁 | CO, CO2, O2, H2O | 废水处理 | H2S |
| 火电厂 | NH3, CH4 | 制陶业 | HF |
| 电解镍 | H2S, CO, CO2 2, | 水泥制造 | CO, CO2, NH3, H2O, O2 |
| 电解铜 | 填埋 | H2S, CH4, NH3 | |
| 石化 | HF, H2S、H2O | 烟草加工 | CO, CO2 |
| 核电、核加工 | HF, D2O, HDO | 汽车尾气 | CO, CO2 (HC, ) |
| 可检测气体 | HF（氟化氢），HCI(氯化氢)，HBr(溴化氢)，HI（碘化氢），HCN（），CO（一氧化碳），CO2（二氧化碳），CH4（甲烷），C2H2（乙炔），C2H4（乙烯），C2H6（乙烷），C3H8（丙烷），CH2CHCL(氯乙烯)，（一氧化氮），2（二氧化氮），NH3（氨气），H2S（硫化氢），H2O（水），O2（氧气），D2O（重水），HOD（半重水） | ||
