产品型号：
UNIPOL-160D 双面研磨抛光机
产品简介：
UNIPOL-160D 双面研磨抛光机是一种高双面研磨和抛光设备。它能同时对4片2"的基片进行双面研磨和抛光，并获得在直径2"区域内TTV 小于1um。所以它是一台在实验室研磨抛光Si，Ge 和氧化物单晶基片的理想工具。
带抛光垫的不锈钢下磨盘
固定不同尺寸的轮
技术参数：
1、研磨盘尺寸：225（外径）x 94（内径）x 15（厚度）mm
2、上磨盘的重量及配重：5.5kg（3kg 配重）
3、轮规格：z＝54 m＝1.5 dia.81mm（环氧）
4、轮多使用数量：4
5、加工基片尺寸：dia.60mm
6、平面度和平行度：0.001mm
7、研磨和抛光：＋/-0.001mm
8、表面质量：>grade 10
9、输入电源：单相 AC 220v
10、电机：DC110V/600W/0~1500rpm 可调
产品规格：
外形尺寸：615x375x494mm 净重：80kg
可选配件：
一套轮有4个，不是标配件，但我司能提供。一个轮能固定基片的尺寸和数量如下：
一片直径 60 mm 或2"基片
3片直径 1"基片
14片10x10mm 基片
如需订购，请告知基片抛光后的尺寸和厚度l
UNIPOL-160D 双面研磨抛光机
产品简介：
UNIPOL-160D 双面研磨抛光机是一种高双面研磨和抛光设备。它能同时对4片2"的基片进行双面研磨和抛光，并获得在直径2"区域内TTV 小于1um。所以它是一台在实验室研磨抛光Si，Ge 和氧化物单晶基片的理想工具。
带抛光垫的不锈钢下磨盘
固定不同尺寸的轮
技术参数：
1、研磨盘尺寸：225（外径）x 94（内径）x 15（厚度）mm
2、上磨盘的重量及配重：5.5kg（3kg 配重）
3、轮规格：z＝54 m＝1.5 dia.81mm（环氧）
4、轮多使用数量：4
5、加工基片尺寸：dia.60mm
6、平面度和平行度：0.001mm
7、研磨和抛光：＋/-0.001mm
8、表面质量：>grade 10
9、输入电源：单相 AC 220v
10、电机：DC110V/600W/0~1500rpm 可调
产品规格：
外形尺寸：615x375x494mm 净重：80kg
可选配件：
一套轮有4个，不是标配件，但我司能提供。一个轮能固定基片的尺寸和数量如下：
一片直径 60 mm 或2"基片
3片直径 1"基片
14片10x10mm 基片
如需订购，请告知基片抛光后的尺寸和厚度l
