对半导体制造装置发热部的冷却：单晶片洗净转载、印刷机、自动夹座安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶片处理装置、切片机、包装机、显影剂的温度管理、露光装置、生磁部分的加热装置等。
高恒温油槽产品特点：
节约能源--在夏季和高环境温度下，冷却水可在系统回路中循环使用，节约大量的水资源。
效率更高--一台循环水设备可同时满足多台外部设备的冷却需求，持续提供低温恒温水源，适用于冷凝实验。
控温--PID控温技术，内置PT100传感器，控温高，温度数字显示，操作直观
性高――具有自我诊断功能；冷冻机过载保护等多种保障功能。
低温不冻液配比
A乙二醇水溶液：乙二醇／水 55／45（-30℃），70／30（-40℃）
B丙三醇水溶液：丙三醇／水 70／30（-30℃）使用中需经常检查低温不冻液的密度使其满足如下要求：1.乙二醇水溶液：P20＝1079㎏／m3（-30℃）（-40℃）2.丙三醇水溶液：P20＝1182.6㎏／m3（-30℃）不冻液用水代替时，其温度须在0℃以上。
高恒温油槽产品特点：
节约能源--在夏季和高环境温度下，冷却水可在系统回路中循环使用，节约大量的水资源。
效率更高--一台循环水设备可同时满足多台外部设备的冷却需求，持续提供低温恒温水源，适用于冷凝实验。
控温--PID控温技术，内置PT100传感器，控温高，温度数字显示，操作直观
性高――具有自我诊断功能；冷冻机过载保护等多种保障功能。
低温不冻液配比
A乙二醇水溶液：乙二醇／水 55／45（-30℃），70／30（-40℃）
B丙三醇水溶液：丙三醇／水 70／30（-30℃）使用中需经常检查低温不冻液的密度使其满足如下要求：1.乙二醇水溶液：P20＝1079㎏／m3（-30℃）（-40℃）2.丙三醇水溶液：P20＝1182.6㎏／m3（-30℃）不冻液用水代替时，其温度须在0℃以上。
其他说明
| 类别 | 单箱 | 双箱 | 三箱 | ||||||
| 型号 | HK-GJ-10H | HK-GJ-10F | HK-GJ-10L | HK-GJ-20H | HK-GJ-20F | HK-GJ-20L | HK-GJ-30H | HK-GJ-30F | HK-GJ-30L |
| 温度范围(℃) | 0~150 | -20~150 | -40~150 | 0~150 | -20~150 | -40~150 | 0~150 | -20~150 | -40~150 |
| 温度 | 0~30℃/0.005℃ 0.01℃ | ||||||||
| 匀均度 | &plun;0.005℃ | ||||||||
| 分辨率 | 0.001℃_0.01℃ | ||||||||
| 内箱尺寸(W*H*D)mm | 500*350*420 | 580*300*350 | 580*300*350 | ||||||
| 冷却方式 | 压缩机制冷 | 内部循环水 | 压缩机制冷 | 压缩机制冷 | |||||
| 控制器 | 日本岛电SR23 0.1级高斜率控制器 | ||||||||
| 试验介质 | 0度以下可用工业酒精 25度以上可用环烷烃,烷烃和芳香烃(变压器油) | ||||||||
| 搅拌方式 | 循环马达搅拌 | ||||||||
| 电源 | AC220V 50Hz | ||||||||
