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干氯中的水分在线监测系统
在线测量干燥（Cl2）中的水分（H2O）
监测水分含量，以控制干燥机工艺含水分的（>12mg/l H2O）对于在干燥机后面的其他氯处理中使用的很多材料都具有腐蚀性。因此，需要对进行干燥，以发生腐蚀。具有有限干燥能力的工艺干燥机将执行这一干燥过程。为了在发生饱和时进行再生，需使用多台干燥机。湿的干燥过程需要通过在线测量（Cl2）中的水分（H2O）进行控制。
典型测量范围：0-10/0-20/0-200 mg/l H2O（1）
中盐水中的钙镁离子在线监测系统
对盐水质量进行控制以膜的损坏
从水银电解法改为膜电解法后，盐水的纯度就变得关键。盐水纯化工艺的功能不正常会造成较高的 Ca＋＋和 Mg＋＋浓度，从而可能损害膜的性能。在膜被钙盐和镁盐堵塞的情况下，用电成本就会不可逆转地增加。后，可能需要将膜更换。典型测量范围：
1–20或 1–100µg/l 或 ppm Ca2＋和 Mg2＋（1）
中盐水中总氮在线监测系统
提供装置保护，发生三氯化氮。通过在上游控制盐水中的总氮（TN），可以采取要的工艺措施来在液化过程中形成三氯化氮（NCl3）。使用新开发的 TONI®Special 分析仪并采用具有等摩尔响应的湿法化学氧化技术，可对盐水中的总氮进行在线测量。
典型测量范围：0–2.5 mg/l TN（1）
湿氯中的氢气在线监测系统
提供装置保护，发生氢气
湿中的氢气（H2）浓度关键，尤其是采用膜电解池法生产时。因为膜的损坏，在数秒钟内即可发生氢气（H2）与（Cl2）混合。氢气（H2）和（Cl2）的混合气可能会发生燃烧或，取决于混合气中两种气体的浓度。出于原因，建议安装一个在线分析仪系统，以便快速测定湿中的氢气（H2），从而使气体组成保持在易燃限以内。
响应时间：T90<15s
典型测量范围：
水银电解法：分析仪显示 0-4%HCl 和 0-2%H2，通过 UV 反应器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
隔膜电解法：分析仪显示 0-4%HCl 和 0-2%H2，通过 UV 反应器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
膜电解法：分析仪显示 0-2%HCl 和 0-1%H2，通过 UV 反应器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
湿氯中的氧气在线监测系统
验证和控制膜的氧气渗透电解池阳侧的氧气浓度可指示出膜的状况和性能。膜的使用时间越长，因盐水中的杂质堵塞所产生的变化就越大。在发生某种轻度的堵塞时，须将电上的电解电压才能在阳处获得足量的电解。在过某个值之后，H2O 开始分解，形成氧气。通过对湿中的氧气进行在线测量，就可产生电解工艺的条件，并且可将这种测量结果用作耗氯装置（如 EDC 二氯乙烯（C2H4Cl2）装置）的初始数值，从而保持氧气（O2）–（Cl2）–乙烯（C2H4）三角形在限以下。
典型测量范围：0-2%O2（1）
干氯中的氢气在线监测系统
提供装置保护，发生氢气湿中的氢气（H2）浓度关键，尤其是采用膜电解池法生产时。因为膜的损坏，在数秒钟内即可发生氢气（H2）与（Cl2）混合。氢气（H2）和（Cl2）的混合气可能会发生燃烧或，取决于混合气中两种气体的浓度。出于原因，建议安装一个在线分析仪系统，以便快速测定湿中的氢气（H2），从而使气体组成保持在易燃限以内。
响应时间：T90<15s
典型测量范围：
水银电解法：分析仪显示 0-4%HCl 和 0-2%H2，通过 UV 反应器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
隔膜电解法：分析仪显示 0-4%HCl 和 0-2%H2，通过 UV 反应器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
膜电解法：分析仪显示 0-2%HCl 和 0-1%H2，通过 UV 反应器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
干氯中的水分在线监测系统
在线测量干燥（Cl2）中的水分（H2O）
监测水分含量，以控制干燥机工艺含水分的（>12mg/l H2O）对于在干燥机后面的其他氯处理中使用的很多材料都具有腐蚀性。因此，需要对进行干燥，以发生腐蚀。具有有限干燥能力的工艺干燥机将执行这一干燥过程。为了在发生饱和时进行再生，需使用多台干燥机。湿的干燥过程需要通过在线测量（Cl2）中的水分（H2O）进行控制。
典型测量范围：0-10/0-20/0-200 mg/l H2O（1）
中盐水中的钙镁离子在线监测系统
对盐水质量进行控制以膜的损坏
从水银电解法改为膜电解法后，盐水的纯度就变得关键。盐水纯化工艺的功能不正常会造成较高的 Ca＋＋和 Mg＋＋浓度，从而可能损害膜的性能。在膜被钙盐和镁盐堵塞的情况下，用电成本就会不可逆转地增加。后，可能需要将膜更换。典型测量范围：
1–20或 1–100µg/l 或 ppm Ca2＋和 Mg2＋（1）
中盐水中总氮在线监测系统
提供装置保护，发生三氯化氮。通过在上游控制盐水中的总氮（TN），可以采取要的工艺措施来在液化过程中形成三氯化氮（NCl3）。使用新开发的 TONI®Special 分析仪并采用具有等摩尔响应的湿法化学氧化技术，可对盐水中的总氮进行在线测量。
典型测量范围：0–2.5 mg/l TN（1）
湿氯中的氢气在线监测系统
提供装置保护，发生氢气
湿中的氢气（H2）浓度关键，尤其是采用膜电解池法生产时。因为膜的损坏，在数秒钟内即可发生氢气（H2）与（Cl2）混合。氢气（H2）和（Cl2）的混合气可能会发生燃烧或，取决于混合气中两种气体的浓度。出于原因，建议安装一个在线分析仪系统，以便快速测定湿中的氢气（H2），从而使气体组成保持在易燃限以内。
响应时间：T90<15s
典型测量范围：
水银电解法：分析仪显示 0-4%HCl 和 0-2%H2，通过 UV 反应器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
隔膜电解法：分析仪显示 0-4%HCl 和 0-2%H2，通过 UV 反应器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
膜电解法：分析仪显示 0-2%HCl 和 0-1%H2，通过 UV 反应器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
湿氯中的氧气在线监测系统
验证和控制膜的氧气渗透电解池阳侧的氧气浓度可指示出膜的状况和性能。膜的使用时间越长，因盐水中的杂质堵塞所产生的变化就越大。在发生某种轻度的堵塞时，须将电上的电解电压才能在阳处获得足量的电解。在过某个值之后，H2O 开始分解，形成氧气。通过对湿中的氧气进行在线测量，就可产生电解工艺的条件，并且可将这种测量结果用作耗氯装置（如 EDC 二氯乙烯（C2H4Cl2）装置）的初始数值，从而保持氧气（O2）–（Cl2）–乙烯（C2H4）三角形在限以下。
典型测量范围：0-2%O2（1）
干氯中的氢气在线监测系统
提供装置保护，发生氢气湿中的氢气（H2）浓度关键，尤其是采用膜电解池法生产时。因为膜的损坏，在数秒钟内即可发生氢气（H2）与（Cl2）混合。氢气（H2）和（Cl2）的混合气可能会发生燃烧或，取决于混合气中两种气体的浓度。出于原因，建议安装一个在线分析仪系统，以便快速测定湿中的氢气（H2），从而使气体组成保持在易燃限以内。
响应时间：T90<15s
典型测量范围：
水银电解法：分析仪显示 0-4%HCl 和 0-2%H2，通过 UV 反应器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
隔膜电解法：分析仪显示 0-4%HCl 和 0-2%H2，通过 UV 反应器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
膜电解法：分析仪显示 0-2%HCl 和 0-1%H2，通过 UV 反应器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
