此外，辉光放电选项也是可用的（Q150R S和Q150R 版本），它可实现样品表面改性（如疏水表面改为亲水表面）。
快速简便：快速、易更换的镀膜头，能在同一个紧凑设计中实现金属溅射、碳蒸镀和辉光放电三者之间的快速转换。
采用全自动触摸屏控制,可快速输入数据。与镀膜处理方法及镀膜材料相适配的镀膜参数方案可通过触摸按键实现预设并储存。自动放气控制功能了溅射期间的真空状态，可提供良好的一致性和可重复性。
易使用：智能识别系统可自动探测安装了何种类型的镀膜头，以便立即运行相应的镀膜方案。可存储多个用户自定义的镀膜方案 – 这对于需更改镀膜参数实现不同应用的多用户实验室理想。多种样品台组件适用于各种尺寸和类型的样品；样品台都带有快速、易更换及落入式设计的特点。
大、可重复镀膜及高性：可预编程的镀膜参数及方案能一致且可重复的结果。需要沉积厚膜时，本系统提供长达60分钟且无需破真空的溅射时间。设计的碳蒸镀头操作简单,具有对蒸发电流参数的控制，了SEM应用中一致的和可重复的碳沉积。可选的膜厚监控附件用于可重复的膜厚控制。
适配且用途广：溅射、碳蒸镀、辉光放电头及多种可选件，使Q150R对于多用户实验室应用理想。可溅射一系列不氧化金属，如金、银、铂和钯。碳丝蒸镀头处理样品速度快。也可选用碳棒蒸发。
还可用于金属薄膜研究及电的应用。