- 品牌/商标：MYCRO
- 企业类型：贸易商
- 新旧程度：全新
- 原产地：美国
RTP系列的快速退火炉由德国Unitemp公司开发制造，德国工艺保障。
温度均匀度≤1%。可以处理的尺寸可以达到300mm，厚度可以支持到11mm，温度可以达到1200摄氏度，处理过程可以在真空环境或者惰性气体的环境中执行，多可知支持4路进气，可以用到的气体包含N2，O2，N2H2，Ar和H2。
基于PID处理控制器的Eurotherm可以存储20套程序，每套程序可以支持高达100个步骤的设定，带USB2.0的接口。
包含UniSoft 软件，与微软Windows操作系统兼容。通过该软件，可以通过外带电脑（电脑不包含在报价中）可以非常方便地实现程序编辑以及数据记录
该系列的退火炉主要包含如下三款型号：
1） RTP-100
基片从前面载入/取出；
可支持的尺寸：直径为100mm的Wafer或者100mm×100mm的基片；
温度高达1200摄氏度；
升温速率为150K/sec；
降温速率分段控制：从1200℃到400℃，降温速率优于200K/sec。从400℃到100℃降温速率控制在30K/sec；
2） RTP-150
基片从前面载入/取出；
可支持的尺寸：直径为150mm的Wafer或者150mm×150mm的基片；
温度高达1000摄氏度；
升温速率为75K/sec；
降温速率分段控制：从1000℃到400℃，降温速率优于200K/sec。从400℃到100℃降温速率控制在30K/sec；
3）VPO-1000-300
也可以用于污染物处理；
基片从上面载入/取出；
可支持的尺寸：直径为300mm的Wafer或者300mm×300mm的基片；
温度高达1000摄氏度；
升温速率为40K/sec；
降温速率分段控制：从1000℃到400℃，降温速率优于200K/sec。从400℃到100℃降温速率控制在30K/sec；
需要更详细的平板硫化机的资料咨询，
请与迈可诺技术有限公司 中国营销服务中心联系
温度均匀度≤1%。可以处理的尺寸可以达到300mm，厚度可以支持到11mm，温度可以达到1200摄氏度，处理过程可以在真空环境或者惰性气体的环境中执行，多可知支持4路进气，可以用到的气体包含N2，O2，N2H2，Ar和H2。
基于PID处理控制器的Eurotherm可以存储20套程序，每套程序可以支持高达100个步骤的设定，带USB2.0的接口。
包含UniSoft 软件，与微软Windows操作系统兼容。通过该软件，可以通过外带电脑（电脑不包含在报价中）可以非常方便地实现程序编辑以及数据记录
该系列的退火炉主要包含如下三款型号：
1） RTP-100
基片从前面载入/取出；
可支持的尺寸：直径为100mm的Wafer或者100mm×100mm的基片；
温度高达1200摄氏度；
升温速率为150K/sec；
降温速率分段控制：从1200℃到400℃，降温速率优于200K/sec。从400℃到100℃降温速率控制在30K/sec；
2） RTP-150
基片从前面载入/取出；
可支持的尺寸：直径为150mm的Wafer或者150mm×150mm的基片；
温度高达1000摄氏度；
升温速率为75K/sec；
降温速率分段控制：从1000℃到400℃，降温速率优于200K/sec。从400℃到100℃降温速率控制在30K/sec；
3）VPO-1000-300
也可以用于污染物处理；
基片从上面载入/取出；
可支持的尺寸：直径为300mm的Wafer或者300mm×300mm的基片；
温度高达1000摄氏度；
升温速率为40K/sec；
降温速率分段控制：从1000℃到400℃，降温速率优于200K/sec。从400℃到100℃降温速率控制在30K/sec；
需要更详细的平板硫化机的资料咨询，
请与迈可诺技术有限公司 中国营销服务中心联系
