- 品牌/商标：MYCRO
- 企业类型：贸易商
- 新旧程度：全新
- 原产地：美国
品牌：Alpha
产地：德国
简介：
德国原装进口Q系列微波等离子处理系统，用于（高剂量注入后）光刻胶的去除，Alpha微波等离子刻蚀机，用于湿法或干法刻蚀工艺前后，Alpha微波等离子区胶机用于SU-8和其它环氧基光胶的去除，Alpha微波等离子去胶机用于微电子机械系统加工中牺牲层去除，Alpha Q150微波等离子去胶机用于去除化学残余物，Alpha微波等离子去胶机用于清除浮渣工艺。
应用领域：
? 半导体硅片生产中光刻胶或SU-8胶工艺
? 平板显示生产中等离子体预处理
? 太阳能电池生产中边缘绝缘和制绒
? 先进晶片（芯片）装配中的衬底清洁和预处理
优势：
? 预处理可避免光刻胶在高剂量离子注入后破裂
? 硬胶的轻柔去除
? 温度为230摄氏度
? Slow temperature ramp – up温升慢
? 高密度激发态原子团
? 工艺时间短
? 的自偏压，低损伤
需要更详细的微波等离子处理系统信息
请与迈可诺技术有限公司中国营销服务中心区域办公室联系!
产地：德国
简介：
德国原装进口Q系列微波等离子处理系统，用于（高剂量注入后）光刻胶的去除，Alpha微波等离子刻蚀机，用于湿法或干法刻蚀工艺前后，Alpha微波等离子区胶机用于SU-8和其它环氧基光胶的去除，Alpha微波等离子去胶机用于微电子机械系统加工中牺牲层去除，Alpha Q150微波等离子去胶机用于去除化学残余物，Alpha微波等离子去胶机用于清除浮渣工艺。
应用领域：
? 半导体硅片生产中光刻胶或SU-8胶工艺
? 平板显示生产中等离子体预处理
? 太阳能电池生产中边缘绝缘和制绒
? 先进晶片（芯片）装配中的衬底清洁和预处理
优势：
? 预处理可避免光刻胶在高剂量离子注入后破裂
? 硬胶的轻柔去除
? 温度为230摄氏度
? Slow temperature ramp – up温升慢
? 高密度激发态原子团
? 工艺时间短
? 的自偏压，低损伤
| Q150 | Q235 | Q240 | |
| 样片尺寸 | 5" | 6" | 4", 5", 6", 8" |
| 腔室尺寸（mm） | φ150 x 260depth | φ235 x 260depth | φ240x 460depth |
| 处理能力 | 25x 5" | 25x 6" | 50x 6", 8" |
| 工艺压力(Pascal) | 1-100 | 1-100 | 1-100 |
| 频率(GHz) | 2.45 | 2.45 | 2.45 |
| 功率(W) | 100-600 | 100-600 | 100-1200 |
| 控制方式 | 全自动运行 | 全自动运行 | 全自动运行 |
| 外形尺寸 （WxHxD, mm） | 500x370x550 | 590x460x550 | 760x775x775 |
| 主机重量（kg） | 40 | 70 | 120 |
| 泵重量（kg） | 32 | 32 | 83 |
| 总重量（kg） | 72 | 102 | 203 |
| 总功率 (kW) | 2.2 | 2.6 | 4.2 |
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