- 制作工艺:
- 薄膜
精密铂电阻-薄膜铂电阻,用真空沉积的薄膜技术把铂溅射在陶瓷基片上,膜厚在2μm以内,用玻璃烧结料把Ni(或Pd)引线固定,经激光调阻制成薄膜元件。 高:0.15度可以修正到0.1度 测温范围:-50~200;-50~400;-50~600范围宽广
100 /1000Ω阻值可供选择 工作稳定;尺寸小
薄膜铂电阻选型表
型号 | 外形尺寸 W×L×Hmm | 标称阻值 R0 | 工作电流 mA | 引线尺寸 W×L×Hmm | 工作温度 ℃ | 误差 | 外形图 mm |
VEC-1632-Ni | 1.6×3.2×1.0 | 100Ω | 1 | 0.25×0.15×12 | -40~450 | 1/3DIN A B 2B | |
VEC-1632-Pd | 0.3×0.2×10 | -50~500 | |||||
VEC-2005-Ni | 2.0×5.0×1.0 | 2 | 0.25×0.15×12 | -40~450 | |||
VEC-2005-Pd | 0.3×0.2×10 | -50~500 | |||||
VEC-2005-Ni | 500Ω 1000Ω | 0.5 | 0.25×0.15×12 | -40~450 | |||
VEC-2005-Pd | 0.5 | 0.3×0.2×10 | -50~500 |