Q150T的机壳是整体成型的结构坚固耐用，配有气冷的70L/S的涡轮分子泵，自动进气控制了溅射期间的真空水平，真空腔室直径为165mm(6.5英寸)并带有爆装置。Q150T具有“真空闭锁”功能，可在设备不工作时维持腔室的真空度，从而高真空的性能。
根据不同的应用方向，Q150T细分为三个型号：
l Q150TS：高分辨率溅射镀膜仪，可溅射易氧化和不易氧化金属，可选各种溅射靶材，包括场发射电镜常用的铱和鉻。
l Q150TE：高真空镀碳仪，可制作高稳定的碳膜和表面覆形膜，是TEM应用理想的选择。
l Q150T：了离子溅射和热蒸镀两种真空沉积镀膜方式，镀膜头可在几秒内快速更换，只能逻辑系统自动识别所装的镀膜头类型，并显示相应的操作模式。
注：上述各型号都可配备如下可选的附件：金属蒸镀、碳丝蒸镀、膜厚测量等
触摸屏控制：
Q150T操作十分简单，直观的触摸屏，即使不熟练的操作者也可以自由操作，同时可方便的键入和存储数据。为了方便使用，设备中已经预存一些了典型的溅射和蒸发镀膜参数资料。
镀膜头选项：
具有一系列可互换、即插即用的镀膜头
l 溅射头适用于易氧化和不易氧化金属材料。直径57mmX0.3mm厚鉻靶为标准靶材。
l 可用另外的溅射头来快速更换镀膜材料（为TS和T型号）
l 适用于3.05mm碳棒蒸发头
l 适用于6.15mm碳棒蒸发头，建议使用3.05mm直径的碳棒，它们更容易控制、更经济。
l 碳丝蒸发头
l 金属蒸发和光阑洁净头，包括向上蒸发或向下蒸发（为TE和T型号）
样品台选项
Q150具有各种易更换的样品台，drop-in 落入式设计具高度可调（除旋转行星台）。
·标准配置为旋转台, 直径为50mm
·可预设倾斜角度的旋转台（可选）
·可变角度旋转行星台（可选）
·可用于4〞晶圆的平面旋转台（可选）
·显微镜载玻片样品台（可选）
其它选项
·用于高样品的加高腔室
·膜厚监测器（FTM）
·用于测量低和高真空的全范围真空计（皮拉尼真空计）
Q150T全自动镀膜系统技术指示：
工作腔室：150mm（内径）*127mm（高）硼硅酸盐玻璃腔室，并带整体护罩
触摸屏用户界面：带有触摸按钮的全图像界面，包含多达十个镀膜程序，可提醒何时需要维护。
样品台：转速为8-20rpm的旋转台
真空系统：
涡轮子分子泵：带有内部空气却的涡轮分子泵，抽速为70L/s
旋转机械泵：抽速为50L/m的两级旋转机械泵，带有油污过滤器
真空测量：皮拉尼真空计作为标配，可选全量程真空计（10428）
限真空度：10-5mbar两级
溅射工作真空范围：5*10-3到5*10-1mbar
工艺参数：
溅射：0-150mA。可预设膜厚（需FTM选项）或使用内置定时器。
碳蒸发：稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发，源自碳棒或碳丝的可重复蒸碳。
电流脉冲：1-90安培
金属蒸发和光阑清洁头：用于源自钨丝篮或舟的金属热蒸发。可配备一个标准钼舟用于清洁SEM或TEM光阑。
金属蒸发头被安装用于向下蒸发，但向上蒸发也能通过配装两个延长电（可提供）而获得。
Servic and other information：
气体：溅射工作气体氩气，99.999%（TS和T版本）；氮气，放气破真空气体（可选）
电源需求：90-250V~50/60Hz 1400VA 包括旋转机械泵；110/240V可选择电压
尺寸：仪器机箱585mm宽*470mm*410mm高(总高650mm)
仪器总重量：33.4KG
溅射靶材和碳耗材供应：Q150S和Q150T标配铬靶，但可选用的其它靶材范围很宽，包括那些广泛用于SEM制样的靶材，如：Au金靶，Au/pd金钯，Pt铂靶，和Iridium铱靶。对非SEM应用，可选用的靶材包括：AI铝，Ta钽，ITO氧化铟锡，Fe铁，W钨，Ti钛，等等：碳制品包括高纯度碳棒和碳丝纤维。
