高光谱椭偏仪！荣获 the award of Best of Boston and Best of Braintree for Optical Instruments and Apparatus!
可以测量折射指数、消光系数（n & K)，膜厚等，广泛适用于半导体、电介质、聚合物、金属等材料，单层薄膜和多层膜。客户包括US Army Research Lab，NASA，NIST，UC Berkeley，MIT，Harvard，Honeywell和Sharp Microelectronics等；
根据客户需求，可提供不同型号：
变角度单波长椭偏仪（632.8nm）；
变角度多波长椭偏仪（532, 632.8, 1064nm, …）；
变角度光谱椭偏仪（深紫外、紫外-可见-近红外光谱190-2300nm）；
全自动变角度光谱椭偏仪（深紫外、紫外-可见-近红外光谱190-2300nm）；
红外光谱椭偏仪等；
技术参数：
膜厚范围：0-30000nm
折射指数：± 0.0001
厚度准确度：± 0.01nm
入射角度：20 - 90°
波长范围：250-1100nm（深紫外、近红外、红外可选）
Psi=±0.01°，Delta=±0.02°
主要特点：
光谱范围：UV/VIS range 250 - 1100 nm，可选扩展光谱范围NIR (700 - 1700 nm) or (700 - 2100 nm)、UV-VIS 范围(190 - 1100 nm) ；
自动旋转起偏器可测量任意偏振状态；
步进扫描分析仪可高速采集低噪音信号；
可变角度范围：from 10-90°，可升级为自动变角度10-90°控制 ；
单层薄膜/多层薄膜快速薄膜厚度、折射率测量；
测试软件可大范围Psi和Delta数据自动测量，并对测试数据进行采集和分析，内置几百种材料数据库；
可扩展二维自动扫描平台，实现(50X50mm, 100X100mm, 150X150mm or 200X200mm)Mapping测量功能以及3D分析；
荣获 the award of Best of Boston and Best of Braintree for Optical Instruments and Apparatus!