1.溶剂净化系统原理介绍
利用惰性气体将储液器溶中的溶剂压入净化柱中，溶剂中的O2等杂质与除氧器中的低价氧化物作用，生成高价金属氧化物，以实现深度脱氧：
2xM+yO2→2MxOy(室温)
脱氧后的气体进人吸附器中，H2O等强吸附质被吸附剂吸附后，即得到高纯溶剂，可直接取用。
除氧器、吸附器经较长时间的工作，脱氧和吸附能力会逐渐下降，当除氧器或除水器快要饱和失效时，就应停止使用，并对失效的塔进行再生，再生后的净化柱又可继续使用。
2. 系统可提纯的溶剂种类
本系统可以提纯的溶剂有: 苯、正己烷、甲苯、四氢呋喃、戊烷、乙醚、 二氯甲烷、乙腈、氯甲烷、甲醇、吡啶、重水、二甲基甲酰胺、二乙基甲酰胺、氯仿、氯苯等。
3. 技术参数
原料溶剂要求
O2含量 ： ≤1000ppm
H2O含量：≤1000ppm
如果原料溶剂超过以上指标则单次净化溶剂的量将相应减少。
出口溶剂技术指标
O2含量 ： ≤1ppm
H2O含量： ≤2ppm
设备技术参数
额定处理量：
溶剂流速 ： ≤
溶剂种类 ： 可以同时处理5种溶剂
再生性能 ： 设备可反复再生长期使用
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