品牌 | 日本大塚OTSUKA旗下Photal | 型号 | FE series |
用途 | 膜厚测量 |
橢圓偏光儀 FE-5000 |
反射式膜厚量測儀 FE-3000 |
膜厚光譜分析儀系統 MCPD series |
桌上型橢圓偏光儀 FE-5000S |
膜厚量測儀 FE-300 |
平面顯示器膜厚量測裝置 FE seires |
半導體膜厚量測裝置 FE series |
生產線製程膜厚量測系統 MCPD series |
反射式膜厚量測儀 FE-3000
膜厚量測儀 FE-300
膜厚光譜分析儀系統 MCPD series
橢圓偏光儀 FE-5000奈米等級的橢圓偏光膜厚儀,適用於解析多層膜膜厚、膜質管理、光學常數(n:屈折率;k:衰減係數)。
膜厚量測範圍 | 0.1nm ~ 1000nm |
波長量測範圍 | 250nm ~ 1100nm |
膜厚量測範圍 | 0.1nm ~ 1000nm |
波長量測範圍 | 300nm ~ 800nm |
膜厚量測範圍 | 1nm ~ 250μm |
波長量測範圍 | 190nm ~ 1600nm |
膜厚量測範圍 | 10nm ~ 40μm |
波長量測範圍 | 300nm ~ 800nm |
膜厚量測範圍 | 800nm ~ 250μm |
波長量測範圍 | 220nm ~ 1600nm |
TOP平面顯示器膜厚量測裝置 FE series可對應各世代的樣品尺寸
應用範圍 | |
LCD | ITO/Gl,PI/OC/Gl,CF/Gl,Resist/Gl |
TFT | SiN/a-Si/Gl |
有機OLED | 有機OLED/ITO/Gl |
PDP | 鐵導層/Gl |
應用範圍 | |
Si半導體晶圓膜 | SiO2/Si,Resist/Si,SiO2/a-Si,SiO2/SiN/SiO2 |
TOP製程生產線膜厚量測系統:MCPD series(可配合各式傳輸裝置及生產線)各式薄膜生產線、遠距離量測、多點同時量測
(1) 顯微鏡量測端 (2) X-Y軸量測平台【顯微鏡量測架構】
以絕對反射率達到高的微小口徑膜厚解析。
(1) 分光光譜儀主機
(2) 受光光纖
(3) Y型分歧式光纖
(4) 量測用光源
(5) 橫式移動軸
(6) 光纖固定組件