仪器简介：
采用制造工艺，可把平面纳米压印拓展到任意曲面。标准模板分为三类：Quartz Molds, Silicon Molds, Polymer Molds of 2"、3"、4"。适用于Obducat，Suss，HP，EVG等多种型号的纳米压印设备。
技术参数：
Delivery of nanoimprint templates in various materials (Si, SiNx, SiC, quartz,gl).Maximum area of the templates:4 inch with feature size of 100 nm. For aller area, minimum feature size of 50 nm.
提供各种材料的纳米压印模板（硅，氮化硅，碳化硅，石英玻璃）。模板尺寸：4英寸，特征尺寸为100nm。对于更小的尺寸，小的特征尺寸可以50nm。
?
Delivery of EBL service for various structures with the feature size down to 30nm.Substrates: any conducting or non-conducting wafers.
提供30nm特征尺寸的各种结构的电子束刻蚀服务。基板：任何导电或者非导电晶片。
?
Micro and nanofabrications for all kinds of nanostructures in a Si, III-V, II-VI and polymers.
各种纳米结构（硅，III-V族元素，II-VI族元素以及聚合物）的微纳米加工。
主要特点：
soft mold for thermal nanoimprint 热压印的软模板
quartz mold for UV nanoimprint 紫外压印的石英模板
silicon mold for thermal nanoimprint 热压印的硅模板
