TLJ-140离子溅射仪系列 基本原理与功能：该系列具有溅射与刻蚀功能。主要用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜（金膜），仪器操作简单方便，是配合中小型扫描电子显微镜制样备的仪器。 应用领域：金的离子溅射，也可用于其他金属的溅射。 名称 TLJ-140离子溅射仪系列 镀膜方式 离子溅射 真空系统 直联旋片真空泵2L/S 制膜种类 金属膜 溅射靶结构形式 Φ63.5mm圆形平面靶 玻璃处理室 Ф140mm×H140mm 基片台 Φ40mm可同时放6个样品杯，可水冷，并可对样品反溅射清洗。 放气阀 位于镀膜室顶部，便于放气。 薄膜均匀性 ≤±5% 真空控制方式 手/自动控制 工艺气体 空气或氩气，配有氩气进气口和微量充气调节。 用电功率 ≥5KW
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