纳米粒径与电位分析仪

Nicomp 380 系列纳米粒径与电位分析仪 是专门用于测量纳米级颗粒以及胶体样品体系的先进粒度分析仪器，其测量范围为 0.3 nm - 10 μm。Nicomp 380 已经成为众多研究人员和国际科学家的。仪器所拥有独特的基线调整自动补偿能力和高分辨率多模式算法，多年来不同领域的使用证明了它可以区分开单峰样本体系和无约束复杂多峰样本体系，是研发的选择！Nicomp 380系列仪器是在应用动态光散射技术上的基础上加入多模块方法的先进粒度仪。可搭载自动进样系统、自动稀释系统、多角度探测及高浓度背光散射和在线监测等模块，随着模块的升级和增加， Nicomp 380 可以更快更准确的用于各种复杂样品的检测分析。

纳米粒径与电位分析仪 工作原理：动态光散射

纳米粒径与电位分析仪技术优势：

· 符合美国USP729检测项目I和符合中国药典新版的推荐方法;

· 的Nicomp多峰算法和传统高斯单峰算法相结合，为复杂体系提供更准确的实验数据；

· 的自动稀释模块；

   带有的自动稀释模块消除了人工稀释高浓度样品带来的误差，大大缩短了使用者测试的宝贵时间，测试结果重现性好，误差率＜1%；

· 度高，重现性好;

· 可选配超高分辨率检测模块；

· 模块化设计便于维护和升级；

· 特为多组分不均匀体系设计；

· 可搭载自动进样系统；

· 独有的样品池设计，可消除样品的交叉污染；

· 快速检测，可追溯历史数据；

· 并且能提供多种类的数据展现形式，Nicomp分布以粒子粒径大小，数量和体积的形式分布呈现

· Zeta电势电位测定：Nicomp Z3000结合了动态光散射技术（DLS）和电泳光散射法（ELS），实现了同机测试亚微米粒子分布和ZETA电势电位。ELS 是将电泳和光散射结合起来的一种新型光散射，它的光散射理论基础是准弹性碰撞理论，在实验时通过在样品槽中外加一个外电场，带电粒子即会以固定速度向与带电粒子电性相反的电极方向移动，与之相应的动态光散射光谱产生多普勒漂移，这一漂移正比于带电粒子的移动速度，因此由实验测得的谱线的漂移，就可以求得带电粒子的电泳速度，从而得到ζ-电位值。通过测试颗粒之间排斥力 ，判断体系稳定性的测量手段之一。并且配备靶电极，经久耐用；

纳米粒径与电位分析仪 应用领域：

· 医药领域：乳剂，注射剂，脂质体，胶体，混悬剂，滴眼液，高分子，病毒，疫苗等；

· 半导体： CMP Slurry，芯片，晶圆加工等

· 特殊化工品：墨水&喷墨，纳米材料，化工染料，润滑剂，清洗剂等。

• 其他：过滤产品，清洁度方面，食品饮料，化妆品等