宽带隙小型深紫外PL-Mapping（光致发光）光谱仪
光致荧光光谱测量是半导体材料特性表征的一个被普遍认可的重要测量手段。MiniPL为模块化设计、计算机自动控制的高灵敏度、宽带隙小型PL（光致荧光）光谱仪；MiniPL采用Photon Systems公司自行研发的深紫外激光器224nm（5.5eV）或248.6nm（5eV）作为激发光源，配合独特的光路设计，采用高灵敏度PMT作为探测器件，并通过仪器内置的门闸积分平均器（Boxcar）进行数据处理，实现微弱脉冲信号的检测。MiniPL可被用表征半导体材料掺杂水平分析、合成组分分析、带隙分析等，不仅可用于科研领用，更可用在半导体LED产业中的品质检测。
主要规格特点：
采用5.5（224nm）或5.0 eV（248.6nm）深紫外激光器
室温PL光谱测量范围：190～650nm（标准），190～850nm（选配）
高分辨率：0.2nm（＠1200g／mm光栅，标配），
0.07nm（＠3600g／mm光栅，选配）
门闸积分平均器（Boxcar）进行微弱脉冲信号的检测
可实现量子效率测量
基于LabView的界面控制
光谱分析软件可获得光谱带宽、峰值波长、峰值副瓣鉴别、光谱数据运算、归一化等
可测量50mm直径样品，样品可实现XYZ三维手动调整（标准）
可选配自动样品扫描装置，实现Mapping功能
可用于紫外拉曼光谱测量
高度集成化，体积：15×18×36cm，重量：＜8kg
产品列表
型号
规格描述
MiniPL 5.0eV
NeCu激光器（248.6nm），三维手动调节样品台，单光栅1200g／mm，PMT（190～650nm），驱动及软件；
MiniPL 5.5eV
HeAg激光器（224.0nm），三维手动调节样品台，单光栅1200g／mm，PMT（190～650nm），驱动及软件；
升级选项
光电倍增管选项
升级为190-850nm
光栅选项
增加第二块光栅（3600g／mm）
Mapping功能选项
升级为X-Y自动扫描样品台
低温制冷选项
4K，6.5K，10K低温制冷样品室，低震动设计，振幅小于5nm
（选配低温选项时不能同时进行Mapping测量）
光致荧光光谱测量是半导体材料特性表征的一个被普遍认可的重要测量手段。MiniPL为模块化设计、计算机自动控制的高灵敏度、宽带隙小型PL（光致荧光）光谱仪；MiniPL采用Photon Systems公司自行研发的深紫外激光器224nm（5.5eV）或248.6nm（5eV）作为激发光源，配合独特的光路设计，采用高灵敏度PMT作为探测器件，并通过仪器内置的门闸积分平均器（Boxcar）进行数据处理，实现微弱脉冲信号的检测。MiniPL可被用表征半导体材料掺杂水平分析、合成组分分析、带隙分析等，不仅可用于科研领用，更可用在半导体LED产业中的品质检测。
主要规格特点：
采用5.5（224nm）或5.0 eV（248.6nm）深紫外激光器
室温PL光谱测量范围：190～650nm（标准），190～850nm（选配）
高分辨率：0.2nm（＠1200g／mm光栅，标配），
0.07nm（＠3600g／mm光栅，选配）
门闸积分平均器（Boxcar）进行微弱脉冲信号的检测
可实现量子效率测量
基于LabView的界面控制
光谱分析软件可获得光谱带宽、峰值波长、峰值副瓣鉴别、光谱数据运算、归一化等
可测量50mm直径样品，样品可实现XYZ三维手动调整（标准）
可选配自动样品扫描装置，实现Mapping功能
可用于紫外拉曼光谱测量
高度集成化，体积：15×18×36cm，重量：＜8kg
产品列表
型号
规格描述
MiniPL 5.0eV
NeCu激光器（248.6nm），三维手动调节样品台，单光栅1200g／mm，PMT（190～650nm），驱动及软件；
MiniPL 5.5eV
HeAg激光器（224.0nm），三维手动调节样品台，单光栅1200g／mm，PMT（190～650nm），驱动及软件；
升级选项
光电倍增管选项
升级为190-850nm
光栅选项
增加第二块光栅（3600g／mm）
Mapping功能选项
升级为X-Y自动扫描样品台
低温制冷选项
4K，6.5K，10K低温制冷样品室，低震动设计，振幅小于5nm
（选配低温选项时不能同时进行Mapping测量）
